A nagy tisztaságú grafitlemezek rövid bemutatása

Az olyan csúcskategóriás gyártási területeken, mint a félvezetők, a fotovoltaik és az új energia, létezik egy nélkülözhetetlen anyag. Rendkívül nagy tisztaságú, ellenáll az extrém magas hőmérsékleteknek és korrózióálló. Széles körben alkalmazzák az egykristályos kemencék magtermikus területén, miközben megkönnyíti a forgácsok precíziós gyártási folyamatait. Ez a nagy teljesítményű anyag a nagy tisztaságú grafitlemez.

Nagy tisztaságúgrafitA lemezek olyan tányér alakú szénanyagok, amelyek prémium nyersanyagokból, köztük kőolajkokszból, szurokkokszból vagy nagy tisztaságú természetes grafitból készülnek számos gyártási folyamaton keresztül, mint például kalcinálás, dagasztás, formázás, sütés, magas hőmérsékletű grafitozás (2800 ℃ felett) és tisztítás. A nagy tisztaságú grafitlemezek elsődleges előnye a kivételes tisztaság, és a teljes szennyezőanyag-tartalmukat jellemzően 10-50 ppm alá szabályozzák, ami azt jelenti, hogy a szennyeződések nem haladják meg az 50 ppm-et az anyagban.

Miért keresik annyira a nagy tisztaságú grafitlemezeket?

A nagy tisztaságú grafitlemezek széles körben elterjedt alkalmazása hat alapvető tulajdonságából fakad, amelyek mindegyike tökéletesen megfelel a csúcsminőségű gyártás szigorú követelményeinek.

1. Az ultranagy tisztaság rendkívül alacsony hamutartalommal jár, és magas hőmérsékleten nincs szennyeződés párolgása, ami megakadályozza a precíziós gyártási folyamatok, például a félvezető lapkagyártás szennyeződését.

2. A kiváló magas hőmérsékleti ellenállásnak köszönhetően stabilan működnek akár 3000 ℃-on inert vagy vákuum környezetben.

3.Kiváló hő- és elektromos vezetőképesség, körülbelül 120–150 W/(m·K) hővezetési együtthatóval és a réz közel 70%-ának megfelelő elektromos vezetőképességgel.

4. Megbízható kémiai stabilitás, ellenáll az erős savaknak, lúgoknak és erősen korrozív közegeknek, szinte nem reagál olvadt fémekre.

5. Erős hőstabilitás, alacsony hőtágulási együtthatóval, nagy hősokkállósággal és nagy méretpontossággal jellemezhető.

6. Könnyű megmunkálhatóság, különböző alkalmazási forgatókönyvekhez alkalmas.

A nagy tisztaságú grafitlemezek főbb alkalmazásai

A nagy tisztaságú grafitlemezek alkalmazása régóta áthatja életünk minden területét, a mobiltelefon-chipektől és a napelemektől az űrhajózásig és az új energetikai járművekig.

1. 3N fokozat (99,9%-os tisztaság) az alapvető high-end mezőkhöz

Ez a minőség költséghatékony, és megfelel a szokásos csúcskategóriás gyártási igényeknek, mivel széles körben használják a kohászatban, vákuumkemencékben, hőkezelésben, precíziós öntőformákban, általános grafittermékekben és kémiai korróziógátló alkatrészekben, például reaktorok bélésében, hőcserélő lemezekben és tömítésekben.

2. 4N fokozat (99,99%-os tisztaság) a fotovoltaikus maghoz és az új energiához

Jelenleg a legszélesebb körben használt minőségként alkalmazzák a fotovoltaikus mono-/polikristályos kemencék hőtereinek fő alkotóelemeiben, beleértve a fűtőelemeket, szigetelőburkolatokat és vezetőhengereket, napelemgyártáshoz használt hordozólemezeket, lítium akkumulátorokat, például anódáramgyűjtőket és vezetőképes hordozókat, üzemanyagcellás bipoláris lemezeket és félvezető segédalkatrészeket.

3. 5N fokozat (99,999%-os tisztaság) félvezetőkhöz és csúcskategóriás elektronikához

Félvezető lapka gyártás (melegítők, olvasztótégelyek, hordozók egykristályos kemencékhez), forgácsgyártási eljárások (fókuszgyűrűk maratógépekhez, tálcák leválasztó berendezésekhez), hőmezők csúcskategóriás elektronikához és optikai bevonat. Rendkívül magas tisztasági szintet követel, és a chipipar egyik alapanyaga.

A fenti alkalmazásokon túlmenően a nagy tisztaságú grafitlemezeket olyan precíziós iparágakban használják, mint a repülőgépipar rakétafúvókákhoz és repülőgép-hajtóművek hőszigetelő alkatrészeihez, a nukleáris ipar neutronmoderátorokhoz és atomreaktorok vezérlőrudakhoz, EDM elektródákhoz és magas hőmérsékletű hűtőbordákhoz.