Kína Speciális grafit Gyártók, beszállítók, gyár

A speciális grafit egyfajta mesterséges grafit, amelyet feldolgoztak. Ez egy fontos anyag, amely nélkülözhetetlen a félvezető és a fotovoltaikus gyártási folyamat minden szempontjából, ideértve a kristálynövekedést, az ionimplantációt, az epitaxiát stb.

1. szilícium -karbid (sic) kristálynövekedés

A szilícium-karbidot, mint harmadik generációs félvezető anyagot, széles körben használják új energia járművekben, 5G kommunikációban és más területeken. A 6 hüvelykes és 8 hüvelykes SIC kristály növekedési folyamatban az izosztatikus grafitot elsősorban a következő kulcsfontosságú elemek gyártására használják:

Grafit tégely: Ez felhasználható a SIC por alapanyag szintetizálására, és elősegíti a kristály növekedését is magas hőmérsékleten. Magas tisztaságú, magas hőmérsékletű ellenállása és hőhatás-ellenállása biztosítja a stabil kristálynövekedési környezetet.

Grafitfűtés: Ez egységes hőeloszlást biztosít, biztosítva a magas színvonalú SIC kristály növekedését.

Szigetelőcső: Ez fenntartja a hőmérsékleti egységességet a kristálynövekedési kemencében és csökkenti a hőveszteséget.

2. ion implantáció

Az ionimplantáció kulcsfontosságú folyamat a félvezető gyártásában. Az izosztatikus grafitot elsősorban a következő komponensek előállítására használják az ion implanterekben:

Graphite Getter: Ez elnyeli a szennyezősági ionokat az ionnyalábban, biztosítva az ion tisztaságát.

Grafit fókuszáló gyűrű: Ez az ionnyaláb fókuszál, javítja az ionimplantátum pontosságát és hatékonyságát. Grafit szubsztrát tálcák: A szilícium ostyák támogatására, valamint a stabilitás és a következetesség fenntartására szolgál az ionimplantáció során.

3. epitaxia folyamat

Az epitaxia folyamat kritikus lépés a félvezető eszközök gyártásában. Az izosztatikusan préselt grafitot elsősorban a következő alkatrészek előállításához használják epitaxis kemencékben:

Grafit tálcák és érzékenyek: A szilícium ostyák támogatására használják, stabil támasztékot és egyenletes hővezetést biztosítva az epitaxia folyamatában.

4. Egyéb félvezető gyártási alkalmazások

Az izosztatikusan préselt grafitot a következő félvezető gyártási alkalmazásokban is széles körben használják:

Retching eljárás: Grafit elektródák és védőkomponensek előállításához használják a maratók számára. Korrózióállósága és nagy tisztasága biztosítja a stabilitást és a pontosságot a maratási folyamatban.

Kémiai gőzlerakódás (CVD): grafit tálcák és fűtőberendezések gyártására használják a CVD -kemencékben. Magas termikus vezetőképessége és magas hőmérsékleti ellenállása biztosítja az egységes vékony fóliát.

Csomagolási tesztelés: A tesztelők és a hordozótálók gyártásához használják. Nagy pontosságú és alacsony szennyeződése biztosítja a pontos teszteredményeket.

A grafit alkatrészek előnyei

Magas tisztaság:

A nagy tisztaságú izosztatikusan préselt grafit anyag felhasználásával rendkívül alacsony szennyeződés tartalmával megfelel a félvezető gyártás szigorú anyag tisztasági követelményeinek. A vállalat saját tisztító kemencéje megtisztíthatja a grafitot 5ppm alatt.

Nagy pontosságú:

A fejlett feldolgozó berendezésekkel és az érett feldolgozási technológiával biztosítja, hogy a termék dimenziós pontossága, valamint a forma és a helyzettűrés elérje a mikron szintjét.

Nagy teljesítmény:

A termék kiváló magas hőmérsékleti ellenállással, korrózióállósággal, sugárzás ellenállással, nagy hővezető képességgel és egyéb tulajdonságokkal rendelkezik, megfelelve a félvezető gyártásának különféle durva munkakörülményeinek.

Testreszabott szolgáltatás:

A testreszabott terméktervezési és feldolgozási szolgáltatásokat az ügyfélnek megfelelően lehet nyújtani, hogy megfeleljen a különböző alkalmazási forgatókönyvek igényeinek.

A grafittermékek típusai

(1) Isosztatikus grafit
Az izosztatikus grafit termékeket a hideg izosztatikus sajtolás készíti. Más formázási módszerekkel összehasonlítva, az e folyamat által előállított keresztre feszítők kiváló stabilitással rendelkeznek. A SIC egykristályokhoz szükséges grafittermékek mindegyike nagy méretű, ami egyenetlen tisztasághoz vezet a felületen és a grafit termékek belsejében, amelyek nem felelnek meg a felhasználási követelményeknek. Annak érdekében, hogy megfeleljenek a SIC egykristályokhoz szükséges nagy méretű grafit termékek mély tisztítási követelményeinek, egyedülálló, magas hőmérsékletű termokémiai impulzus tisztítási eljárást kell alkalmazni a nagy méretű vagy speciális alakú grafit termékek mély és egyenletes tisztításának elérése érdekében, hogy a termékfelület és az alap tisztasága megfeleljen a felhasználási követelményeknek.

(2) porózus grafit
A porózus grafit egyfajta grafit, nagy porozitású és alacsony sűrűségű. A SIC kristály növekedési folyamatában a porózus grafit jelentős szerepet játszik a tömegátadási egységesség javításában, csökkentve a fázisváltozás előfordulási sebességét és javítva a kristály alakját.
A porózus grafit használata javítja a nyersanyag területének hőmérsékleti és hőmérsékleti egységességét, növeli a tégely tengelyirányú hőmérsékleti különbségét, és bizonyos hatással van a nyersanyag felületének átkristályosodásának gyengítésére; A növekedési kamrában a porózus grafit javítja az anyagáramlás stabilitását a növekedési folyamat során, növeli a növekedési terület C/Si arányát, segít csökkenteni a fázisváltozás valószínűségét, és ugyanakkor a porózus grafit szerepet játszik a kristály interfész javításában is.

(3) filc
A puha filc és a kemény érzés egyaránt fontos termikus szigetelő anyagok szerepet játszik a SIC kristálynövekedésben és az epitaxiális kapcsolatokban.

(4) Grafitfólia
A grafitpapír egy funkcionális anyag, amely nagy szén-dioxid-széntartalmú grafitból készül, kémiai kezelés és magas hőmérsékletű gördülés révén. Magas hővezető képességgel, elektromos vezetőképességgel, rugalmassággal és korrózióállósággal rendelkezik.

(5) Kompozit anyagok
A szénszén-széntermi mező az egyik alapvető fogyóeszköz a fotovoltaikus egykristálykemencek előállításában.

Félcoorex produkció

A Semicorex grafitot készít kis tételű, testreszabott gyártási módszerekkel. A kis tételű gyártás a termékeket ellenőrizhetőbbé teszi. A teljes folyamatot programozható logikai vezérlők (PLC) vezérlik, a részletes folyamat adatait rögzítettük, lehetővé téve a teljes életciklus -nyomon követhetőséget.

A teljes pörkölési folyamat során a konzisztencia az ellenállásban különböző helyeken elért, és a szűk hőmérséklet -szabályozás fenntartható. Ez biztosítja a grafit anyagok homogenitását és megbízhatóságát.

A Semicorex teljesen izosztatikus sajtó technológiát használ, amely különbözik a többi beszállítótól; Ez azt jelenti, hogy a grafit maga ultra -egységes, és különösen fontosnak bizonyul az epitaxiális folyamatokban. Az átfogó anyagi egységességi teszteket elvégeztük, beleértve a sűrűség, az ellenállás, a keménység, a hajlítási szilárdság és a szilárdság a különböző minták között.