- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Céges hírek
A félvezető CVD SiC folyamattechnológia részletes magyarázata (Ⅱ. rész)
A kémiai gőzfázisú leválasztási (CVD) eljárás során a gázok főként reaktáns gázokat és vivőgázokat tartalmaznak. A reaktáns gázok atomokat vagy molekulákat biztosítanak a lerakódott anyag számára, míg a vivőgázok a reakciókörnyezet hígítására és szabályozására szolgálnak. Az alábbiakban felsorolunk ......
Olvass tovább
A félvezető CVD SiC folyamattechnológia (I. rész) részletes magyarázata
Mielőtt a kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) szilícium-karbid (Sic) folyamattechnológiájáról beszélnénk, először tekintsünk át néhány alapvető ismeretet a "kémiai gőzleválasztásról". A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) egy általánosan használt technika különféle bevonatok készítésére. Ez magában......
Olvass tovább
Szénfilc indukciós fűtőkemencében – 2. rész
A viszkóz alapú szénszál szigetelőrendszerekhez való alkalmassága magas hőmérsékletű indukciós fűtési környezetben elsősorban kulcsfontosságú tulajdonságainak köszönhető, többek között az alacsony hővezetőképességnek, a nagy hőstabilitásnak, a kiváló hősokkállóságnak, a nagy tisztaságnak és alacsony......
Olvass tovább
Viszkóz alapú filc indukciós fűtőkemencében
A viszkóz alapú szénszál szigetelőrendszerekhez való alkalmassága magas hőmérsékletű indukciós fűtési környezetben elsősorban kulcsfontosságú tulajdonságainak köszönhető, többek között az alacsony hővezetőképességnek, a nagy hőstabilitásnak, a kiváló hősokkállóságnak, a nagy tisztaságnak és alacsony......
Olvass tovább
