A TaC bevonatú grafitot egy nagy tisztaságú grafit szubsztrátum felületének finom tantál-karbid réteggel történő bevonásával állítják elő, szabadalmaztatott kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárással.
A tantál-karbid (TaC) tantálból és szénből álló vegyület. Fémes elektromos vezetőképességgel és kivételesen magas olvadásponttal rendelkezik, így szilárdságáról, keménységéről, valamint hő- és kopásállóságáról ismert tűzálló kerámiaanyag. A tantál-karbidok olvadáspontja a tisztaságtól függően körülbelül 3880 °C, és a bináris vegyületek közül az egyik legmagasabb olvadásponttal rendelkezik. Ez vonzó alternatívává teszi, amikor a magasabb hőmérsékleti igények meghaladják az összetett félvezetők epitaxiális folyamataiban, például a MOCVD és az LPE által használt teljesítményt.
A Semicorex TaC bevonat anyagadatai
|
Projektek |
Paraméterek |
|
Sűrűség |
14,3 (gm/cm³) |
|
Emissziós képesség |
0.3 |
|
CTE (×10-6/K) |
6.3 |
|
Keménység (HK) |
2000 |
|
Ellenállás (Ohm-cm) |
1×10-5 |
|
Hőstabilitás |
<2500 ℃ |
|
Grafit méretváltozás |
-10~-20um (referenciaérték) |
|
Bevonat vastagsága |
≥20um tipikus érték (35um±10um) |
|
|
|
|
A fentiek tipikus értékek |
|
A Semicorex TaC Coated Components in Epitaxial Growth egy értékes megmunkált alkatrész, amely a félvezető epitaxiális folyamatában a légbeömlőben található. A Semicorex egy csúcsminőségű vállalat, amely Kínában a CVD TaC bevonattechnológiára specializálódott, és termékeket világszerte exportál.*
Olvass továbbKérdés küldéseA TaC bevonatú magkristálytartó egy nagy teljesítményű alkatrész, amelyet kifejezetten a félvezető anyagok növekedési környezetéhez terveztek. A TTaC bevonatos magkristálytartók vezető gyártójaként a semicorex hatékony magkomponens-megoldásokat kínál a csúcsminőségű félvezetőgyártás területén.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex TaC Coating talapzattartó egy kritikus komponens, amelyet epitaxiális növesztőrendszerekhez terveztek, és kifejezetten a reaktortalapzatok alátámasztására és a folyamat gázáramlás-eloszlásának optimalizálására lettek kialakítva. A Semicorex nagy teljesítményű, precíziós tervezésű megoldást kínál, amely egyesíti a kiváló szerkezeti integritást, a hőstabilitást és a vegyszerállóságot – egyenletes, megbízható teljesítményt biztosítva a fejlett epitaxiás alkalmazásokban.*
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex CVD TaC Coated Susceptor egy prémium megoldás, amelyet MOCVD epitaxiális folyamatokhoz terveztek, és kiemelkedő hőstabilitást, tisztaságot és korrózióállóságot biztosít extrém folyamatkörülmények között. A Semicorex a precíziós tervezésű bevonattechnológiára összpontosít, amely biztosítja az egyenletes lapkaminőséget, a meghosszabbított alkatrészek élettartamát és a megbízható teljesítményt minden gyártási ciklusban.*
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex TaC bevonatos tégelyek nagy teljesítményű tartályok, amelyeket extrém hőmérsékleti alkalmazásokhoz terveztek, és alkalmasak fémolvasztásra és fejlett félvezető eljárásokra. A Semicorex választása azt jelenti, hogy hozzáférést kap a legmodernebb bevonattechnológiához és mérnöki szakértelemhez, amelyek kivételes tisztaságot, tartósságot és stabilitást biztosítanak a legigényesebb környezetben is.*
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex TaC Coated Planetary Plate egy nagy pontosságú alkatrész, amelyet MOCVD epitaxiális növekedéshez terveztek, bolygómozgással, több lapka zsebbel és optimalizált gázáramlás-szabályozással. A Semicorex választása olyan fejlett bevonattechnológiához és mérnöki szakértelemhez való hozzáférést jelent, amelyek kivételes tartósságot, tisztaságot és folyamatstabilitást biztosítanak a félvezetőipar számára.*
Olvass továbbKérdés küldése