A Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC folyamattechnológia elengedhetetlen a nagy teljesítményű teljesítményelektronika gyártásához, amely lehetővé teszi a nagy tisztaságú szilícium-karbid rétegek precíz epitaxiális növekedését a szubsztrát lapkákon. A SiC széles sávszélességének és kiváló hővezető k......
Olvass továbbA különböző alkalmazási forgatókönyvek eltérő teljesítménykövetelményeket írnak elő a grafittermékekre vonatkozóan, így a pontos anyagválasztás a grafittermékek alkalmazásának alapvető lépése. Az alkalmazási forgatókönyveknek megfelelő teljesítményű grafit alkatrészek megválasztása nemcsak hatékonya......
Olvass továbbAz egykristály növekedési hőmező a hőmérséklet térbeli eloszlása a magas hőmérsékletű kemencében az egykristály növekedési folyamat során, amely közvetlenül befolyásolja az egykristály minőségét, növekedési sebességét és kristályképződési sebességét. A hőteret steady-state és tranziens típusokra o......
Olvass továbbA fejlett félvezetőgyártás több folyamatlépésből áll, beleértve a vékonyréteg-leválasztást, a fotolitográfiát, a maratot, az ionimplantációt és a kémiai mechanikai polírozást. A folyamat során a folyamat apró hibái is káros hatással lehetnek a végső félvezető chipek teljesítményére és megbízhatóságá......
Olvass továbbA nagy tisztaságú grafitlemezek olyan lemez alakú szénanyagok, amelyek prémium alapanyagokból, köztük kőolajkokszból, szurokkokszból vagy nagy tisztaságú természetes grafitból készülnek olyan gyártási folyamatok során, mint a kalcinálás, dagasztás, formázás, sütés, magas hőmérsékletű grafitozás (280......
Olvass tovább