8 hüvelykes EPI felső gyűrű

A Semicorex 8 hüvelykes EPI felső gyűrű az epitaxiális (EPI) lerakódási rendszerek speciális alkotóeleme, amely nagy teljesítményt nyújt, mint a reakció kamra felső fedőgyűrűje. A strukturális integritásra és a termikus stabilitásra összpontosítva a félvezető ostyák epitaxiális növekedése során, az EPI felső gyűrűje nagy tisztaságú grafitból készül, és szilícium-karbiddal (SIC) bevonva, hogy ellenálljon a félvezető gyártás hőmérsékletének és kémiailag reaktív környezetének.

Az epitaxiális reaktorokban a felső gyűrű segít megőrizni az ostya környezetét, és fontos szerepet játszik a hőmérsékleti egységességben és a gázáramlásban a lerakódás során, mint a Susceptor összeállítás részeként. A grafit szubsztráton lévő SIC bevonat az EPI felső gyűrűt biztosítja a hőstabilitással és az inert környezetgel, amely a grafitmag védelméhez szükséges, mivel a folyamatoknak a gázok kitettsége az EPI felső gyűrűjének (hidrogén, szilán, klorosilán stb.) A teljesítmény során. A SIC réteg keménysége és vezetőképessége javítja az EPI felső gyűrű teljesítményét azáltal, hogy megakadályozza a lebomlást, és lehetővé teszi a stabilabb rétegeket a termelési ciklus során.

A dimenziós pontosság, a bevonat konzisztenciája és az ismétlődés iránti elkötelezettséggel a 8 hüvelykes EPI felső gyűrűt precíziós tervezéssel gyártják. A grafit szubsztrátot szoros toleranciákra kell megmunkálni, és termikusan tisztítják a szennyeződések elkülönítésére, tiszta szubsztrátot biztosítva, kiváló tisztasággal és szilárdsággal. A SIC bevonatot kémiai gőzlerakódáson (CVD) alkalmazzuk, hogy sűrű, következetes és erősen kötött védőréteget képezzenek. Ez a folyamat minimalizálja a részecskék generálását, és lehetővé teszi a bevonat számára, hogy megőrizze a felület integritását a meghosszabbított használat során.

A félvezető gyártók az EPI felső gyűrűjére támaszkodnak, hogy fenntartsák a kritikus kamra paramétereit és támogassák a hibamentes ostyákat a gyártás során. A konfigurációt a vezető OEM 8 hüvelykes ostyafeldolgozó rendszerekhez való felhasználásra tervezték. Egyéni lehetőségek állnak rendelkezésre a vastagság, a felületi kivitel és a hornyolt mintákhoz a jobb hőkezelés vagy akár a gázeloszlás érdekében.

A SIC bevonatú grafit tulajdonságainak megfelelőnek az alkalmazáshoz a legjobb tulajdonságok kombinációja van mindkét anyagból; A grafit nagyon megmunkálható, és hőkezelő képessége van a szilícium -karbiddal kombinálva, amely nehezebb, korrózióálló és hosszabb élettartamú. Ez a kombináció végül egy EPI felső gyűrűt ad, amely magas hőmérsékleten megbízható, és garantálja a tiszta és stabil feldolgozási környezetet, amely csökkenti a karbantartási intervallumokat, és biztosítja az általános fokozott berendezések üzemidejét.

A grafit alkatrészek nélkülözhetetlen és döntő szerepet játszanak a félvezető gyártásában. A grafit anyag minősége jelentősen befolyásolja a késztermék minőségét. A grafit kötegelt következetességünk és az anyagi homogenitásunk ellenőrzött és garantált a gyártási folyamat során.

(

2. Minden anyagdarabot megfigyelnek és nyomon követnek.

3. A hőmérséklet -monitorozás a kemencében több ponton biztosítja a minimális hőmérsékleti különbségeket.

4. A hőmérséklet -megfigyelés az anyag több pontján biztosítja a minimális hőmérsékleti különbségeket.

A Semicorex 8 hüvelykes EPI felső gyűrűje kivételes teljesítményt, kötegelt-to-to-to-konzisztenciát és bizonyított megbízhatóságot kínál a legnehezebb félvezetők szilíciumaiban, szilícium-karbidjában vagy más összetett félvezető epitaxis folyamatokban. Minden gyártási lépésnél minőségi ellenőrzéssel rendelkező termékeket gyártunk, ami azt jelenti, hogy a félvezető ipar számára megvásárolt minden termék meghaladja a minőségi előírást.

Válassza a Semicorex 8 hüvelykes EPI felső gyűrűjét az epitaxi alkalmazáshoz, hogy kihasználja a precíziós tervezés, a kiváló anyagok és az alkalmazás-specifikus testreszabás lehetőségeit a hozamok és az eszköz teljesítményének javításához.