2023-04-06
A szilícium-karbid (SiC) epitaxia kulcsfontosságú technológia a félvezetők területén, különösen a nagy teljesítményű elektronikus eszközök fejlesztésében. A SiC egy összetett félvezető széles sávszélességgel, így ideális olyan alkalmazásokhoz, amelyek magas hőmérsékletű és nagyfeszültségű működést igényelnek.
A szilícium-karbid epitaxia egy vékony kristályos anyagréteg felhordásának folyamata egy szubsztrátumon, jellemzően szilíciumon, kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) vagy molekuláris sugaras epitaxiás (MBE) technikák alkalmazásával. Az epitaxiális réteg kristályszerkezete és orientációja megegyezik a szubsztrátuméval, ami lehetővé teszi a két anyag közötti jó minőségű interfész kialakítását.
A SiC epitaxiát széles körben használták a teljesítményelektronika fejlesztésében, beleértve a tápegységeket, például a diódákat, tranzisztorokat és tirisztorokat. Ezeket az eszközöket számos alkalmazásban használják, például elektromos járművekben, megújuló energiarendszerekben és tápegységekben.
Az elmúlt években egyre nagyobb érdeklődés mutatkozott a SiC epitaxia kifejlesztése iránt, olyan nagy teljesítményű eszközök gyártására, mint például az elektromos járművek és a megújuló energiarendszerek. Ezen eszközök iránti kereslet várhatóan gyorsan növekedni fog a következő években, ami a hatékonyabb és fenntarthatóbb energiarendszerek iránti igény miatt következik be.
Válaszul erre az igényre a kutatók és a vállalatok a SiC epitaxiás technológia fejlesztésébe fektetnek be, a minőség javítására és az eljárás költségeinek csökkentésére összpontosítva. Egyes vállalatok például SiC epitaxiát fejlesztenek nagyobb hordozókon, hogy csökkentsék az ostyánkénti költséget, míg mások új technikákat vizsgálnak a hibák sűrűségének csökkentésére.
A SiC epitaxiát fejlett érzékelők fejlesztésében is használják számos alkalmazáshoz, beleértve a gázérzékelést, a hőmérséklet- és a nyomásérzékelést. A SiC egyedülálló tulajdonságokkal rendelkezik, amelyek ideálissá teszik ezekhez az alkalmazásokhoz, mint például a magas hőmérsékleti stabilitás és a kemény környezettel szembeni ellenállás.