Mi az a kémiai gőzleválasztás?

A kémiai gőzfázisú leválasztás (CVD) olyan bevonási technológia, amely gáz- vagy gőzhalmazállapotú anyagokat használ fel a gázfázisban vagy a gáz-szilárd határfelületen végbemenő kémiai reakciók során, hogy szilárd anyagokat hozzon létre, amelyek lerakódnak a hordozó felületére, és ezáltal nagy teljesítményű szilárd filmeket képeznek. A CVD lényege a gáz-prekurzorok reakciókamrába szállítása, ahol a kémiai reakciók során szilárd termékek képződnek, amelyek lerakódnak a hordozóra, és a melléktermék gázok távoznak a rendszerből.

A CVD reakciófolyamata 

1. A reakció prekurzorait vivőgáz juttatja be a reakciókamrába. A reakciógázok a szubsztrátum elérése előtt homogén gázfázisú reakciókon menhetnek keresztül a fő gázáramban, és közbenső termékek és klaszterek keletkezhetnek.

2. A reagensek és a közbenső termékek a határrétegen keresztül diffundálnak, és a fő légáramlási területről a szubsztrátum felületére kerülnek. A reaktáns molekulák a magas hőmérsékletű szubsztrátum felületén adszorbeálódnak, és a felület mentén diffundálnak.

4. A szilárd termék atomjai magot képeznek a felületen, és növekedési pontként szolgálnak, és továbbra is új reakcióatomokat ragadnak meg a felületi diffúzió révén, elérve a film szigetszerű növekedését, és végül egy folytonos filmmé olvadást.

4. A szilárd termék atomjai magot képeznek a felületen, és növekedési pontként szolgálnak, és továbbra is új reakcióatomokat ragadnak meg a felületi diffúzió révén, elérve a film szigetszerű növekedését, és végül egy folytonos filmmé olvadást.

5. A reakció során keletkező gáznemű melléktermékek deszorbeálódnak a felületről, visszadiffundálnak a fő gázáramba, és végül a vákuumrendszer kiüríti a reakciókamrából.

A gyakori CVD-technikák közé tartozik a termikus CVD, a plazmával javított CVD (PECVD), a lézeres CVD (LCVD), a fémorganikus CVD (MOCVD), az alacsony nyomású CVD (LPCVD) és a nagysűrűségű plazma CVD (HDP-CVD), amelyeknek megvannak a saját előnyei, és egyedi igények szerint választhatók.

A CVD-technológiák kompatibilisek kerámiával, üveggel és ötvözetekkel. És különösen alkalmas összetett aljzatokra történő lerakásra, és hatékonyan bevonja a kihívást jelentő területeket, például a lezárt területeket, zsákfuratokat és belső felületeket. A CVD gyors leválasztási sebességgel rendelkezik, miközben lehetővé teszi a filmvastagság pontos szabályozását. A CVD-vel előállított filmek kiváló minőségűek, kiváló egyenletességgel, nagy tisztasággal és erősen tapadnak az aljzathoz. Erős ellenállást mutatnak mind a magas, mind az alacsony hőmérsékletekkel szemben, valamint tolerálják az extrém hőmérséklet-ingadozásokat.

SzámosCVD SiCa Semicorex által biztosított termékek. Ha felkeltettük érdeklődését, forduljon hozzánk bizalommal.