Mi az alacsony hőmérsékletű plazmamaratás?

A plazma az anyag negyedik halmazállapota, és döntő szerepet játszik mind az ipari alkalmazásokban, mind a természeti jelenségekben. Például a plazma jelen van a villámlásban, és bőségesen keletkezik a nap felszínén, ahol a maghőmérséklet eléri a 13 500 °C-ot. Ez a magas hőmérsékletű plazma nem alkalmas a legtöbb ipari gyártási folyamathoz.

Másrészt az alacsony hőmérsékletű plazma a plazma mesterségesen létrehozott formája, amely hő helyett energiát használ fel a kémiai reakciók felgyorsítására. Hőmérséklete jellemzően szobahőmérséklettől több száz Celsius-fokig terjed, így rendkívül hatékony különféle alkalmazásokhoz.

A mesterséges plazma előállításának lépései:

1. Csökkentse a nyomást a kamrában: Először vákuumszivattyúval csökkentse a nyomást az üregben. Az alacsony nyomás elérése elengedhetetlen a plazma stabilizálásához és a gázionizáció elősegítéséhez.

2. Vezesse be a technológiai gázt: Fecskendezzen be speciális technológiai gázokat az üregbe. Ezek a gázok a részecskék elsődleges forrásaként szolgálnak a plazmában.

3. Gerjeszti a plazmát: Használjon áramot a gáz ionizálásához, hatékonyan képezve a plazmát.

4. Inaktiválja a plazmát és állítsa vissza az atmoszférikus nyomást: A kívánt reakciók befejeződése után kapcsolja ki a plazmát, és állítsa vissza a kamrát atmoszférikus nyomásra.

Az alacsony hőmérsékletű plazma alkalmazásai a félvezető gyártásban:

Az alacsony hőmérsékletű plazma nélkülözhetetlen a félvezetőgyártásban, kritikus funkciókat lát el a száraz maratásban, a fizikai gőzleválasztásban (PVD), a kémiai gőzleválasztásban (CVD), az atomi réteges leválasztásban (ALD), az ionimplantációban, a hamvasztásban és a végpont-detektálásban. Sokoldalúsága és hatékonysága az ipar alapvető eszközévé teszi.

Semicorex ajánlatokkiváló minőségű megoldások plazmamaratáshoz. Ha kérdése van, vagy további részletekre van szüksége, kérjük, ne habozzon kapcsolatba lépni velünk.

Telefonszám: +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com