A Semicorex PECVD szoláris grafitcsónak az alapvető grafithordozó és elektróda komponens, amelyet a plazmával fokozott kémiai gőzleválasztási (PECVD) folyamatokban használnak. Széles körben használják szilícium ostyák vagy napelemek támogatására, hogy elérjék a filmlerakódást (például szilícium-nitrid tükröződésgátló fóliák) kihívást jelentő, magas hőmérsékletű plazma üzemi körülmények között.
SemicorexPECVD napelemes grafit csónakokprecíziós, nagy tisztaságúizosztatikus grafit. A Semicorex minden PECVD napelemes grafitcsónakja precíz megmunkáláson, méretellenőrzésen és elektromos teljesítményteszten megy keresztül, hogy biztosítsa a stabil teljesítményt magas hőmérsékletű plazmakörnyezetben.
A PECVD feldolgozás során a PECVD szoláris grafitcsónak szilícium lapkákat visz a PECVD reakciókamrába, és elektródaként szolgál az RF tápegységhez csatlakoztatva. Ha váltakozó feszültséget kapcsolunk a szomszédos hajólemezek közé, elektromos mező jön létre. Az elektromos tér hatására a reaktív gázok (például szilán SiH₂ és ammónia NH₃) izzító kisülésen mennek keresztül, és plazmát termelnek. A plazmában lévő ionok és szabad gyökök lebontják a prekurzor gázokat, szilícium (Si) és nitrogén (N) ionokat képezve. Ezek az ionok egyesülve szilícium-nitrid (Si3N4) molekulákat képeznek, amelyek azután a szilíciumlapka felületén vékony filmeket képeznek.
1. Kivételes hőstabilitás
A Semicorx hőtágulási együtthatója megközelíti a szilícium lapkákétPECVD napelemes grafit csónakhevítéskor elhanyagolható méretváltozást tapasztal, ami megbízhatóan elkerüli az ostyák termikus feszültség okozta károsodását.
2. Kiváló elektromos és hővezető képesség
A Semicorex PECVD napelemes grafit csónakok kiváló elektromos vezetőképességgel rendelkeznek, biztosítva az RF áram gyors vezetését és az egyenletes elektromos téreloszlást, ami előnyös a stabil plazmatermelés és az egyenletes szilíciumlemez lerakódás szempontjából. Ezenkívül kiváló hővezető képessége elősegíti a gyors hűtést és melegítést, javítja a termelés hatékonyságát, miközben megakadályozza, hogy a helyi túlmelegedés befolyásolja a lerakódás minőségét.
3. Erős kémiai stabilitás
A prémium minőségű anyagok felhasználásának köszönhetően a Semicorex PECVD szoláris grafitcsónak kevésbé hajlamos a reaktív gázokkal és plazmával való reakcióra. Ez a jellemző jelentősen megakadályozza a korrózió, deformáció vagy szennyeződés lerakódását okozó egyenetlen elektromos téreloszlást a grafitcsónakban, így biztosítva a leválasztási folyamat stabilitását és a szilícium lapkák felületi minőségét.
4. Kiemelkedő mechanikai szilárdság
Kiemelkedő mechanikai szilárdságával a Semicorex PECVD szoláris grafitcsónak könnyedén elbírja a nagy volumenű lapkaterhelések súlyát. Hosszú ideig ellenállnak a rakodás és szállítás során keletkező mechanikai igénybevételnek anélkül, hogy könnyen deformálódnának vagy eltörnének.
5. Kiváló méretkonzisztencia
A Semicorex PECVD szoláris grafitcsónak precíziós megmunkálással kivételes méretpontosságot ér el minden alkatrészen. Fix helyzetben tartja a szilícium ostyát a lerakás során, ami biztosítja az egyenletes lerakódást és az automatizált gyártással való kompatibilitást.