Termékek

View as

SiC Graphite RTP hordozólemez MOCVD-hez

A Semicorex SiC Graphite RTP hordozólemez a MOCVD-hez kiváló hőállóságot és termikus egyenletességet kínál, így tökéletes megoldást jelent a félvezető lapkák feldolgozásához. A kiváló minőségű SiC bevonatú grafitnak köszönhetően ezt a terméket úgy tervezték, hogy ellenálljon a legkeményebb lerakódási környezetnek az epitaxiális növekedéshez. A magas hővezető képesség és a kiváló hőeloszlási tulajdonságok megbízható teljesítményt biztosítanak RTA, RTP vagy kemény vegyszeres tisztításhoz.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC bevonatú RTP hordozólemez az epitaxiális növekedéshez

A Semicorex SiC bevonatú RTP hordozólemez az epitaxiális növekedéshez tökéletes megoldás a félvezető lapkák feldolgozásához. Kiváló minőségű széngrafit szuszceptoraival és MOCVD-vel feldolgozott kvarctégelyeivel grafit, kerámia stb. felületén ez a termék ideális ostyakezeléshez és epitaxiális növesztéshez. A SiC bevonatú hordozó magas hővezető képességet és kiváló hőeloszlási tulajdonságokat biztosít, így megbízható választás RTA, RTP vagy kemény vegyszeres tisztításhoz.

Olvass tovább Kérdés küldése

RTP RTA SiC bevonatú hordozó

A Semicorex a szilícium-karbid bevonatú grafit szuszceptor nagyméretű gyártója és szállítója Kínában. Semicorex grafit szuszceptor, amelyet kifejezetten az epitaxiás berendezésekhez terveztek, magas hő- és korrózióállósággal Kínában. Az RTP RTA SiC bevonatos hordozónk jó árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacot lefed. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk.

Olvass tovább Kérdés küldése

RTP hordozó a MOCVD epitaxiális növekedéséhez

A Semicorex RTP Carrier for MOCVD Epitaxial Growth ideális a félvezető lapkák feldolgozásához, beleértve az epitaxiális növekedést és a lapkakezelési feldolgozást. A széngrafit szuszceptorokat és kvarctégelyeket MOCVD-vel dolgozzák fel grafit, kerámia stb. felületén. Termékeink jó árelőnnyel rendelkeznek, és számos európai és amerikai piacot lefednek. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Olvass tovább Kérdés küldése

SiC bevonatú ICP komponens

A Semicorex SiC-bevonatú ICP-komponensét kifejezetten magas hőmérsékletű ostyakezelési eljárásokhoz tervezték, mint például az epitaxia és a MOCVD. Finom SiC kristály bevonattal hordozóink kiváló hőállóságot, egyenletes termikus egyenletességet és tartós vegyszerállóságot biztosítanak.

Olvass tovább Kérdés küldése

Magas hőmérsékletű SiC bevonat plazmamarató kamrákhoz

Ha az ostyakezelési eljárásokról van szó, mint például az epitaxia és a MOCVD, a Semicorex magas hőmérsékletű SiC bevonata plazmamaratási kamrákhoz a legjobb választás. A finom SiC kristály bevonatnak köszönhetően hordozóink kiváló hőállóságot, egyenletes termikus egyenletességet és tartós vegyszerállóságot biztosítanak.

Olvass tovább Kérdés küldése

<...57 58 59 60 61...67 >