A Semicorex Quartz Susceptor Support kifejezetten félvezető epitaxiális kemencékhez készült. Nagy tisztaságú anyagai és precíz szerkezete lehetővé teszi a tálcák vagy mintatartók pontos emelését és pozicionálását a reakciókamrában. A Semicorex testreszabott, nagy tisztaságú kvarcmegoldásokat tud nyújtani, biztosítva minden támasztóelem hosszú távú teljesítménystabilitását a magas vákuumú, magas hőmérsékletű és erősen korrozív félvezető folyamatkörnyezetekben a fejlett feldolgozási technológia és a szigorú minőség-ellenőrzés révén.*
A félvezetőgyártás szigorú környezetében a nagy hozamú tétel és a költséges meghibásodás közötti különbség gyakran az ostya pozicionálás mikroszkopikus pontosságában rejlik. A Semicorex Quartz Susceptor Support Shaft (általános nevén epitaxiális kvarctengely) a kémiai gőzlerakódás (CVD) és az epitaxiális növekedési folyamatok szó szerinti gerinceként szolgál. Úgy tervezték, hogy ellenálljon a szélsőséges termikus gradienseknek és a vegyi expozíciónak, ezért ez az alkatrész kritikus fontosságú a szuszceptorok vagy lapkahordozók folyadék, függőleges mozgása és forgása szempontjából.
Az epitaxiális folyamathoz gyakran 1000°C-ot meghaladó hőmérsékletre és a legkisebb fémszennyeződéstől mentes környezetre van szükség. A szabványos anyagok ilyen körülmények között meghibásodnának vagy gázt bocsátanak ki. A Quartz Susceptor Supportunk rendkívül nagy tisztaságú szintetikus olvasztott szilícium-dioxidból készül, amely biztosítja:
Kivételes hőstabilitás:Magas hősokkállóság, megakadályozza a repedéseket a gyors fűtési és hűtési ciklusok során.
Kémiai tehetetlenség:Nem reagál prekurzor gázokkal és tisztítószerekkel, megőrzi a félvezető lapka integritását.
Minimális szennyeződés:A milliomodrészben (ppm) mért szennyeződési szintek révén megakadályozza, hogy a légkör nem kívánt elemekkel „doppingoljon”.
A Quartz Susceptor Support elsődleges funkciója, hogy megkönnyítse a szuszceptor függőleges és forgó mozgását – a félvezető lapkát tartó lemezt.
Egy tipikus reaktorban az ostya felülete és a gázbemenet közötti távolság határozza meg a film egyenletességét. Kvarctengelyeinket a milliméter alatti tűréshatárig megmunkáltuk. Ez lehetővé teszi a berendezés mozgásvezérlő rendszere számára, hogy abszolút megismételhetőséggel emelje vagy süllyessze a szuszceptort, biztosítva, hogy a gyártás során minden lapka azonos gázáramlási dinamikát tapasztaljon.
A nagy volumenű gyártás (HVM) hatékonysága az ostyakezelés sebességétől függ. A tartótengely lemezes kialakítása és megerősített szerkezeti bordái biztosítják, hogy elbírja a nehéz grafit ill.szilícium-karbid (SiC) bevonatú szuszceptorokmeghajlás és rezgés nélkül. Ez a stabilitás elengedhetetlen a minták gyors átviteléhez a különböző feldolgozókamrák vagy munkaállomások között, minimalizálva az állásidőt.
Míg a szuszceptornak forrónak kell lennie, az alatta lévő mechanikai alkatrészeknek gyakran hidegebbnek kell maradniuk.Kvarctermészetes hőszigetelőként működik. A tengely üreges, csőszerű szerkezete csökkenti a hővezetési utat, védi a reaktor alján található motor- és vákuumtömítéseket.
| Ingatlan |
Érték |
| Anyag |
Nagy tisztaságú olvasztott kvarc (SiO2 > 99,99%) |
| Üzemi hőm |
1200°C-ig (folyamatos) |
| Felületi kidolgozás |
Csiszolt |
| Tervezés típusa |
Háromágú szuszceptortartó / tengely típusú |
| Alkalmazás |
MOCVD, CVD, epitaxiás és diffúziós kemencék |