A Semicorex Si Substrate precízen és megbízhatóan lett kialakítva, hogy megfeleljen a félvezetőgyártás szigorú szabványainak. A Semicorex kiválasztása azt jelenti, hogy olyan szubsztrátumot kell kiválasztani, amelyet aprólékosan kidolgoztak, hogy egyenletes teljesítményt nyújtson minden alkalmazásban. Si szubsztrátumunk szigorú minőség-ellenőrzésen esik át, minimális szennyeződéseket és hibákat biztosítva, és egyedi specifikációkkal áll rendelkezésre, hogy megfeleljenek a legmodernebb technológia igényeinek.*
A Semicorex Si Substrate kritikus komponens a félvezető eszközök, napelemek és különféle elektronikus alkatrészek gyártásában. A szilícium kiváló félvezető tulajdonságai, valamint hő- és mechanikai stabilitása az elektronikában leggyakrabban használt hordozóanyaggá teszik. A technológia széles skáláját felölelő alkalmazásokkal – például integrált áramkörökkel (IC-k), napelemes fotovoltaikával és energiaellátó eszközökkel – a Si Substrate alapvető szerepet játszik a félvezető eszközök teljesítményében, hatékonyságában és megbízhatóságában. Si szubsztrátumunkat úgy tervezték, hogy megfeleljen a modern elektronika szigorú követelményeinek, és optimális alapot biztosítson a félvezető technológia fejlett alkalmazásaihoz.
Jellemzők és specifikációk
Nagy tisztaságú anyag:Si szubsztrátumaink nagy tisztaságú szilícium felhasználásával készülnek, biztosítva a minimális szennyeződéseket, amelyek befolyásolhatják az elektromos tulajdonságokat. Ez a nagy tisztaságú anyag kiváló hővezető képességet biztosít, és minimálisra csökkenti a nem kívánt elektronikus interferenciát, ami döntő fontosságú a nagy teljesítményű alkalmazásokban.
Optimalizált kristálytájolás:A Si-szubsztrát különféle kristály-orientációkban áll rendelkezésre, beleértve a (100), (110) és (111), amelyek mindegyike különböző alkalmazásokhoz alkalmas. Például a (100) orientációt széles körben használják a CMOS gyártásban, míg a (111)-et gyakran előnyben részesítik nagy teljesítményű alkalmazásoknál. Ez a választás lehetővé teszi a felhasználók számára, hogy a hordozót az adott eszközkövetelményekhez igazítsák.
Felületminőség és síkság:A készülék optimális teljesítményéhez elengedhetetlen a sima, hibamentes felület elérése. Si szubsztrátumaink precízen polírozottak és kezeltek, hogy alacsony felületi érdességet és magas síkságot biztosítsanak. Ezek az attribútumok hozzájárulnak a hatékony epitaxiális réteglerakódáshoz, minimalizálva a következő rétegek hibáit.
Hőstabilitás:A szilícium termikus tulajdonságai alkalmassá teszik olyan eszközökhöz, amelyek megbízható teljesítményt igényelnek különböző hőmérsékleteken. Si szubsztrátumunk megőrzi stabilitását magas hőmérsékletű folyamatok, például oxidáció és diffúzió során, biztosítva, hogy ellenálljon az összetett félvezetőgyártás követelményeinek.
Testreszabási lehetőségek:Különféle vastagságban, átmérőben és adalékolási szintben kínálunk Si-aljzatot. A testreszabási lehetőségek lehetővé teszik a gyártók számára, hogy optimalizálják a hordozót bizonyos elektromos tulajdonságok, például az ellenállás és a hordozókoncentráció alapján, amelyek kritikusak az elektronikus eszközök teljesítményének hangolásában.
Alkalmazások
Integrált áramkörök (IC):Az Si Substrate az IC-gyártás alapvető anyaga, amely stabil és egységes alapot biztosít olyan eszközök számára, mint a processzorok, memóriachipek és érzékelők. Kiváló elektronikus tulajdonságai lehetővé teszik az eszközparaméterek pontos szabályozását, ami elengedhetetlen a tranzisztorok sűrű csomagolásához a modern IC-kben.
Tápegységek:A Si szubsztrátumokat gyakran használják teljesítmény félvezető eszközökben, például MOSFET-ekben és IGBT-ekben, ahol elengedhetetlen a magas hővezető képesség és a mechanikai szilárdság. A tápegységekhez olyan hordozókra van szükség, amelyek ellenállnak a nagy feszültségeknek és áramoknak, és Si-szubsztrátumaink kivételes teljesítményt nyújtanak ezekben az igényes környezetekben.
Fotovoltaikus cellák:A napfény elektromos árammá alakításában a szilícium a leggyakrabban használt anyag a fotovoltaikus cellákban. Si szubsztrátumaink biztosítják a napelemes alkalmazásokhoz szükséges nagy tisztaságú, stabil alapot, lehetővé téve a hatékony fényelnyelést és a nagy energiateljesítményt, ezáltal hozzájárulva a megújuló energia előállításához.
Mikroelektromechanikai rendszerek (MEMS):A MEMS-eszközök gyakran támaszkodnak Si-szubsztrátumokra stabilitásuk, könnyű mikromegmunkálásuk és a hagyományos félvezető eljárásokkal való kompatibilitásuk miatt. Az érzékelőkben, aktuátorokban és mikrofluidikus eszközökben történő alkalmazások az Si Substrate tartósságából és pontosságából profitálnak.
Optoelektronikai eszközök:A fénykibocsátó diódák (LED-ek) és lézerdiódák számára az Si Substrate olyan platformot kínál, amely kompatibilis a különféle vékonyréteg-leválasztási folyamatokkal. Termikus és elektromos tulajdonságai megbízható teljesítményt tesznek lehetővé optoelektronikai alkalmazásokban.