SIC epitaxiális modul

A Semicorex SIC epitaxiális modul, a prémium minőségű, a SIC bevonattal ellátott grafitból készült, az epitaxiális berendezések része, amelyet úgy fejlesztettek ki, hogy ellenálljon a szilícium -karbid (SIC) epitaxia folyamatainak legnehezebb elemeinek. Ez a modul, amelyet a kémiai gőzlerakódás (CVD) alkalmazásainak magas hőmérsékletére szántak, fontos alkotóeleme annak, hogy bemutassák az ostyák stabilitását és támogatását a kiváló minőségű SIC epitaxiális növekedése során. A Semicorex SIC modul hatékony alapanyag az epitaxiális anyag megbízható és megismételhető előállításához, összhangban a minőségi SIC specifikációkkal.

A Semicorex SIC modul egy grafit szubsztrát, amely sűrű és egyenletes szilícium -karbid -bevonatú réteggel borítva, és a részecskek szennyeződésének és a korróziónak is rezisztens a legsúlyosabb folyamatkémiaiakban. A SIC bevonat tiltja a mögöttes grafit szennyeződését és erózióját, és jelentős mechanikai támogatást és védelmet nyújt 1600 ° C -ig. A SIC modul egyesíti a grafit szilárdságát és megmunkálhatóságát a szilícium -karbid általános kopásával, korróziójával és kémiai ellenálló tulajdonságaival, így ez a modul legmegfelelőbb a tartósság szempontjából a kemény epitaxiális légkörben.

A modult úgy tervezték, hogy egyenletes termikus profilt biztosítson, miközben minimalizálja a dimenziós változást a termikus kerékpáros folyamat során. Ez a termikus egységesség és stabilitás nélkülözhetetlen a ostya lapossága és az epitaxia egységességének fenntartásához. Ha a ostya stabil pozíciót tart fenn, nagy hővezetőképességgel, akkor a feldolgozás során az ostya hőmérséklete egyenletes lesz, ami pozitívan befolyásolja a hozamot, a kristályminőséget és az állásidőt, amely a részhiba vagy a szennyeződéshez kapcsolódik.

A SIC epitaxiális modul kompatibilis több epitaxiális reaktorral, beleértve a forró falat és a hidegfalat, és lehetősége van testreszabni az alakra és a méretekre, hogy megfeleljen a konkrét reaktorok elrendezésének és az ügyfelek igényeinek. A SIC epitaxiális modul jól alkalmazható, de nem kizárólag, a 4 hüvelykes, 6 hüvelykes és a felmerülő 8 hüvelykes SIC epitaxis alkalmazásokhoz. A SIC epitaxiális modul magas tisztaságának és optimalizált geometriájának köszönhetően a fizikai interferencia minimalizálódik a gázáramlás dinamikájára és a termikus gradiensekre gyakorolt hatása során, amelyek támogatják az epitaxiális réteg jobban szabályozott növekedését.

A Semicorex SIC epitaxiális moduljai az excentrikus szerelvény legmagasabb minőségű vezérelt darabját képviselik. A kiváló minőségű ellenőrzési protokollok mellett a Semicorex a legújabb bevonási módszereket használja az egységes, sűrű és alacsony kimenetelű SIC-filmek alkalmazására. A Semicorex régóta nagy teljesítményű kerámia bevonatok és grafit megmunkálási azonosítási folyamat előnyei vannak, amelyek a lehető legjobb termék élettartamát, következetességét és feldolgozási stabilitását biztosítják a tételről a kötegre.

A SIC tápegységek gyorsan fejlődő mezőjében, ahol az anyagminőség közvetlenül befolyásolja az eszköz teljesítményét, az epitaxiális modul nem csupán fogyóeszközök-ez egy kritikus elősegítő. A Semicorex SIC bevonatú grafit epitaxiális modulja robusztus, megbízható megoldást kínál azoknak az ügyfeleknek, akik a SIC epitaxiában a hatékonyság, a hozam és a költséghatékonyság határértékeinek meghatározására törekszenek.