Pótalkatrészek az epitaxiális növekedéshez

A Semicorex pótalkatrészei az epitaxiális növekedésben rendkívül kritikusak, különösen az olyan eljárásoknál, amelyek kvarccsöveket tartalmaznak. Ezek az alkatrészek nélkülözhetetlenek a gázáramlás megkönnyítésében a tálca alapjainak forgásához, és biztosítják a pontos hőmérséklet-szabályozást az epitaxiális növekedési folyamat során. A Semicorex pótalkatrészeket az epitaxiális növekedésben, köznyelvben félalkatrészként ismerték, aprólékosan úgy tervezték, hogy ellenálljanak a magas hőmérsékletnek és az epitaxiális növekedési kamrákban rejlő korrozív környezetnek. Szilícium-karbidból (SiC) készültek, és kivételes termikus és kémiai stabilitást biztosítanak, így ideális választás az ilyen igényes alkalmazásokhoz. A SiC használata biztosítja, hogy ezek az alkatrészek a legnehezebb körülmények között is ellenálljanak.

Az epitaxiális növekedésben lévő pótalkatrészek egy félhold alakjára emlékeztetnek, és úgy tervezték, hogy szorosan illeszkedjenek a kvarccső szerelvénybe. Egyedülálló félholdas konfigurációjuk lehetővé teszi, hogy könnyen be- és eltávolítsák őket a rendszerből, megkönnyítve a karbantartási és cserefolyamatokat hatékonyan és pontosan.

Az epitaxiális növekedésben használt pótalkatrészek többféle célt szolgálnak. Először is segítik az epitaxiális növekedési folyamathoz nélkülözhetetlen gázok szabályozott szállítását. A gáz áramlási sebességének és eloszlásának szabályozásával biztosítják a félvezető anyagok egyenletes lerakódását a hordozó felületére, ami elengedhetetlen a kívánt anyagtulajdonságok és az eszköz teljesítményének eléréséhez.

Az epitaxiális növekedésben lévő pótalkatrészek hozzájárulnak a tálca alapjának forgó mozgásához a növekedési kamrán belül. Ez a forgás kulcsfontosságú a lerakódott anyagok egyenletes eloszlásának elősegítésében, megakadályozva az egyenetlenségek vagy hibák kialakulását az epitaxiális rétegekben.