Ostyahordozó MOCVD-hez

A Semicorex Wafer Carrier a MOCVD fejlett MOCVD-alkalmazásokhoz való kialakításához biztonságos alapként működik, amelyet szakszerűen terveztek félvezető lapkák rögzítésére. Optimalizált kialakítást kínál, amely szoros tapadást biztosít az ostyákon, és elősegíti a gázok optimális eloszlását az egyenletes anyagrétegződés érdekében. A kémiai gőzfázisú leválasztással (CVD) szilícium-karbid (SiC) bevonattal továbbfejlesztett MOCVD ostyahordozó egyesíti a grafit rugalmasságát a CVD SiC tulajdonságaival: elviseli a magas hőmérsékletet, elhanyagolható hőtágulási együtthatóval rendelkezik, és elősegíti a kiegyenlített hőeloszlást. Ez az egyensúly döntő fontosságú az ostyák felületi hőmérsékletének integritásának megőrzésében.

Az olyan tulajdonságokkal büszkélkedhet, mint a korróziógátlás, a kémiai rugalmasság és ennek következtében a meghosszabbított élettartam, a MOCVD-hez készült Wafer Carrier jelentősen megnöveli az ostyák kaliberét és hozamát. Tartóssága közvetlen gazdasági előnyt jelent, így a MOCVD-hez készült Wafer Carrier bölcs beszerzési választás lehet a félvezetőgyártási műveletekhez.

Az ostyák epitaxiális eljárásaihoz aprólékosan szabott Semicorex Wafer Carrier for MOCVD kiválóan alkalmas az ostyák magas hőmérsékletű kemencékben történő biztonságos szállítására. Tartós váza biztosítja, hogy az ostyák sértetlenek maradjanak, ezáltal csökkentve a károsodásra való hajlamot a kritikus epitaxiális növekedési szakaszokban.**