ICP szilícium-szén bevonatú grafit

Az epitaxiális növekedési feldolgozáshoz használt ostyahordozóknak el kell viselniük a magas hőmérsékletet és a kemény vegyszeres tisztítást. A Semicorex ICP szilícium-karbon bevonatú grafit szuszceptorokat kifejezetten ezekhez az igényes epitaxiás berendezésekhez tervezték. Termékünket úgy tervezték, hogy ellenálljon a magas hőmérsékletnek és a kemény vegyszeres tisztításnak, így biztosítva a hosszú élettartamot és az optimális eredményt.
Az ICP szilícium-karbon bevonatú grafitunkat úgy tervezték, hogy a legjobb lamináris gázáramlási mintát érje el, biztosítva a hőprofil egyenletességét. Ez segít megelőzni a szennyeződéseket vagy a szennyeződések diffúzióját, biztosítva a jó minőségű epitaxiális növekedést az ostya chipen.
Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni az ICP szilícium-szénbevonatú grafitunkról.

Az ICP szilícium-karbon bevonatú grafit paraméterei

Az ICP szilícium-karbon bevonatú grafit jellemzői

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen

Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig

Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.

Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.

Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.

- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése

- Garantálja a termikus profil egyenletességét

- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját