In semiconductor fabrication, etching is one of the major steps, along with photolithography and thin-film deposition. It involves removing unwanted materials from the surface of a wafer using chemical or physical methods. This step is carried out after coating, photolithography, and developing. It ......
Olvass továbbA SiC szubsztrátumnak lehetnek mikroszkopikus hibái, mint például a menetcsavar diszlokáció (TSD), a menetél diszlokáció (TED), az alapsík diszlokáció (BPD) és mások. Ezeket a hibákat az atomok atomi szintű elrendezésének eltérései okozzák. A SiC kristályoknak lehetnek makroszkópikus diszlokációi is......
Olvass továbbA kutatási eredmények szerint a TaC bevonat védő- és szigetelőrétegként szolgálhat a grafitkomponensek élettartamának meghosszabbítására, a radiális hőmérséklet egyenletességének javítására, a SiC szublimációs sztöchiometriájának fenntartására, a szennyeződések migrációjának visszaszorítására és az ......
Olvass tovább