CVD bevonó ostya tartó

A Semicorex CVD bevonó ostya tartója egy nagy teljesítményű rész, amelynek célja az ostyák támogatása és tartása a félvezető anyagok pontos növekedése során epitaxia folyamatok felhasználásával. Tantalum karbiddal (TAC) borítják, amely hozzájárul annak kiemelkedő tartósságához és megbízhatóságához az igényes körülmények között.

Főbb jellemzők:

Tantalum karbid bevonat: Az ostya tartó bevonatát tantalum karbiddal (TAC) keménységének, kopásállóságának és termikus stabilitásának köszönhető. Ez a bevonat jelentősen hozzájárul a termék azon képességéhez, hogy ellenálljon a szigorú kémiai környezeteknek, valamint a magas hőmérsékleteknek, és alkalmazza az alkalmazást, hogy pontosan mi szükséges a félvezető gyártásához.

Szuperkritikus bevonási technológia: A bevonatot szuperkritikus folyadéklerakódási módszerrel alkalmazzák, amely garantálja a TAC egyenletes és sűrű rétegét. A fejlett bevonási technológia jobb tapadást és hibacsökkentést biztosít, kiváló minőségű, tartós bevonatot biztosítva, biztosítva.

Bevonat vastagsága: A TAC bevonat akár 120 mikron vastagságát is elérheti, ideális egyensúlyt biztosítva a tartósság és a pontosság szempontjából. Ez a vastagság biztosítja, hogy az ostya tartója ellenálljon a magas hőmérsékleteknek, nyomásoknak és reaktív környezeteknek anélkül, hogy veszélyeztetné annak szerkezeti integritását.

Kiváló hőstabilitás: A tantalum karbid bevonat kiemelkedő hőstabilitást kínál, lehetővé téve az ostya-tartó számára, hogy megbízhatóan teljesítse a félvezető epitaxia folyamatokra jellemző magas hőmérsékleten. Ez a szolgáltatás elengedhetetlen a következetes eredmények fenntartásához és a félvezető anyag minőségének biztosításához.

Korrózió és kopásállóság: A TAC bevonat kiváló ellenállást biztosít a korrózióval és a kopással szemben, biztosítva, hogy az ostya tartója elviselje a reaktív gázok és vegyi anyagok kitettségét a félvezető folyamatokban. Ez a tartósság meghosszabbítja a termék élettartamát, és csökkenti a gyakori pótlások szükségességét, javítva a működési hatékonyságot.

Alkalmazások:

A CVD bevonó ostya tartóját kifejezetten félvezető epitaxia folyamatokhoz tervezték, ahol a pontos vezérlés és az anyag integritása nélkülözhetetlen. Ezt olyan technikákban használják, mint például a molekuláris gerenda-epitaxia (MBE), a kémiai gőzlerakódás (CVD) és a fém-szerves kémiai gőzlerakódás (MOCVD), ahol az ostya tartónak ellen kell állnia a szélsőséges hőmérsékleteknek és a reaktív környezetnek.

A félvezető epitaxiában a pontosság elengedhetetlen a szubsztrát kiváló minőségű vékony fóliáinak növekedéséhez. A CVD bevonó ostya tartója biztosítja, hogy az ostyák biztonságosan támogassák és fenntartják az optimális körülmények között, hozzájárulva a kiváló minőségű félvezető anyagok következetes előállításához.

A Semicorex CVD bevonó ostyavezetőt élvonalbeli anyagok és fejlett bevonási technológiák felhasználásával tervezték, hogy megfeleljenek a félvezető epitaxia magas igényeinek. A szuperkritikus folyadéklerakódás használata vastag, egységes TAC bevonathoz páratlan tartósságot, pontosságot és hosszú élettartamot biztosít. Kiváló termikus és kémiai ellenállásával az ostyarabőrünket úgy terveztük, hogy megbízható teljesítményt nyújtson a legnagyobb kihívást jelentő környezetben, elősegítve a félvezető gyártási folyamatok hatékonyságának javítását.