A SiC bevonattal ellátott Semicorex CVD zuhanyfej egy fejlett alkatrész, amelyet ipari alkalmazásokhoz terveztek, különösen a kémiai gőzleválasztás (CVD) és a plazmával javított kémiai gőzleválasztás (PECVD) területén. A prekurzor gázok vagy reaktív anyagok szállításának kritikus csatornájaként ez a speciális CVD zuhanyfej SiC bevonattal megkönnyíti az anyagok precíz lerakódását a szubsztrátum felületére, amely szerves része ezeknek a kifinomult gyártási folyamatoknak.
A nagy tisztaságú grafitból készült és CVD-módszerrel vékony SiC réteggel bevont CVD zuhanyfej SiC Coat bevonattal a grafit és a SiC előnyös tulajdonságait egyesíti. Ez a szinergia olyan alkatrészt eredményez, amely nemcsak a gázok egyenletes és pontos eloszlásának biztosításában jeleskedik, hanem figyelemre méltó rugalmassággal is büszkélkedhet a lerakódási környezetben gyakran előforduló termikus és kémiai szigorral szemben.
A SiC bevonattal ellátott CVD zuhanyfej funkcionalitásának kulcsa, hogy képes egyenletesen eloszlatni a prekurzor gázokat az aljzat felületén, ez a feladat az aljzat feletti stratégiai elhelyezésével, valamint a felületén lévő kis lyukak vagy fúvókák aprólékos tervezésével érhető el. Ez az egyenletes eloszlás kulcsfontosságú a következetes lerakódási eredmények eléréséhez.
A SiC bevonatanyaga a SiC bevonattal ellátott CVD zuhanyfejhez nem önkényes, hanem kiváló hővezető képessége és kémiai stabilitása alapján történik. Ezek a tulajdonságok elengedhetetlenek a leválasztási folyamat során felhalmozódó hő mérsékléséhez és az egyenletes hőmérséklet fenntartásához az aljzaton keresztül, amellett, hogy robusztus védelmet nyújtanak a korrozív gázokkal és a CVD-folyamatokra jellemző zord körülményekkel szemben.
A különböző CVD-rendszerek és folyamatkövetelmények egyedi igényeihez igazítva a SiC bevonattal ellátott CVD zuhanyfej kialakítása olyan lemezt vagy tárcsát foglal magában, amelyet aprólékosan kiszámított lyukak vagy nyílások sorával szereltek fel. a SiC Coat kialakítású CVD zuhanyfej nemcsak az egyenletes gázeloszlást biztosítja, hanem a leválasztási folyamathoz elengedhetetlen optimális áramlási sebességet is, kiemelve az alkatrésznek az anyagleválasztási folyamatok pontosságára és egyenletességére való törekvésben betöltött szerepét.