CVD-SiC zuhanyfej

A Semicorex CVD-SiC zuhanyfej tartósságot, kiváló hőkezelést és ellenáll a kémiai lebomlásnak, így megfelelő választás a félvezetőipar igényes CVD-folyamataihoz. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A CVD zuhanyfejekkel összefüggésben a CVD-SiC zuhanyfejet általában úgy tervezték, hogy a prekurzor gázokat egyenletesen ossza el a hordozó felületén a CVD folyamat során. A zuhanyfejet általában a hordozó felett helyezik el, és a prekurzor gázok a felületén lévő kis lyukakon vagy fúvókákon áramlanak.

A zuhanyfejben használt CVD-SiC anyag számos előnnyel jár. Magas hővezető képessége segít elvezetni a CVD-folyamat során keletkező hőt, biztosítva az egyenletes hőmérsékleteloszlást az aljzaton. Ezenkívül a SiC kémiai stabilitása lehetővé teszi, hogy ellenálljon a korrozív gázoknak és a CVD-folyamatok során gyakran előforduló zord környezeteknek.

A CVD-SiC zuhanyfej kialakítása az adott CVD-rendszertől és a folyamatkövetelményektől függően változhat. Általában azonban egy lemez vagy tárcsa alakú alkatrészből áll, számos precíziós fúrással vagy résszel. A furatmintázat és a geometria gondosan megtervezett, hogy egyenletes gázeloszlást és áramlási sebességet biztosítson a hordozó felületén.