CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej

A lapkákon lévő anyagok maratására és kémiai gőzfázisú leválasztására (CVD) szolgáló plazmaberendezésben a technológiai gázokat egy CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfejen keresztül vezetik be a folyamatkamrába. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) bevonatú grafit zuhanyfej egy speciális komponens, amelyet különféle ipari folyamatokban használnak, mint például a kémiai gőzleválasztás (CVD) és a plazmával javított kémiai gőzleválasztás (PECVD). Kulcsfontosságú szerepet játszik abban, hogy prekurzor gázokat vagy reaktív anyagokat szállítson a szubsztrátum felületére ezen leválasztási folyamatok során.

A CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej nagy tisztaságú grafitból készül, és CVD módszerrel SiC vékony réteggel van bevonva. A CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej egyesíti a grafit és a SiC jótékony tulajdonságait, így a különféle leválasztási folyamatok nélkülözhetetlen alkotóelemévé válik, ahol precíz és egyenletes gázelosztásra van szükség, valamint a magas hőmérséklettel és kémiai környezettel szembeni ellenállás mellett.

Jellemzők:

Kémiai ellenállás

Hőstabilitás

Sima és egyenletes felület

Csökkentett szennyeződés