CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej

Az ostyákon lévő anyagok maratására és kémiai gőzleválasztására (CVD) szolgáló plazmaberendezésben a technológiai gázokat egy CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfejen keresztül vezetik be a folyamatkamrába. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, ezért várjuk, hogy hosszú távú partnere lehessünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) bevonatú grafit zuhanyfej egy speciális komponens, amelyet különféle ipari folyamatokban használnak, mint például a kémiai gőzleválasztásban (CVD) és a plazmával javított kémiai gőzleválasztásban (PECVD). Kulcsfontosságú szerepet játszik abban, hogy prekurzor gázokat vagy reaktív anyagokat szállítson a szubsztrát felületére ezen leválasztási folyamatok során.

A CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej nagy tisztaságú grafitból készül, és CVD módszerrel SiC vékony réteggel van bevonva. A CVD SiC bevonatú grafit zuhanyfej egyesíti a grafit és a SiC jótékony tulajdonságait, így alapvető alkotóeleme a különböző leválasztási eljárásoknak, ahol precíz és egyenletes gázelosztásra van szükség, a magas hőmérsékletnek és kémiai környezetnek való ellenálló képesség mellett.

Jellemzők:

Vegyi ellenállás

Hőstabilitás

Sima és egyenletes felület

Csökkentett szennyeződés