Nagy tisztaságú porózus grafit anyag

A nagy tisztaságú porózus grafitanyag, különösen a Semicorex porózus grafit, a félvezetőiparban a SiC (szilícium-karbid) egykristály-növekedéshez használt anyagok csúcsát jelenti. Ezt a speciális grafitanyagot az ultra-nagy tisztaságra és a kivételes nyitott porozitásra precízen tervezték, így kiváló választás a kristálynövekedési folyamatok igényes alkalmazásaihoz.

A Semicorex porózus grafit megkülönböztető jellemzője a páratlan tisztaságban rejlik, amely minimális szennyeződést biztosít, amely veszélyeztetheti a félvezető gyártási folyamat integritását. Ez a magas szintű tisztaság elengedhetetlen a SiC egykristály növekedéséhez, mivel minden szennyeződés hátrányosan befolyásolhatja a keletkező félvezető anyag elektromos és szerkezeti tulajdonságait.

Ezenkívül a Semicorex porózus grafit nagy nyitott porozitással büszkélkedhet, ami a hatékony és szabályozott kristálynövekedés kulcsfontosságú jellemzője. A nyitott porozitás megkönnyíti a gázáramlás és a hőeloszlás pontos szabályozását a kristálynövekedési folyamat során, hozzájárulva a kiváló minőségű, egyenletes tulajdonságú SiC egykristályok előállításához.

Az anyag kiváló minősége túlmutat kémiai és fizikai tulajdonságain. A Semicorex porózus grafit aprólékosan kidolgozott és kezelt, hogy megfeleljen a félvezetőipar szigorú követelményeinek. Megbízhatósága, konzisztenciája és teljesítménye miatt előnyös választás a SiC egykristály-növekedéssel foglalkozó félvezetőgyártók számára.