ICP plazma maratótálca

ICP plazma marató tálcánk CVD módszerrel szilícium-karbid bevonatú, ami ideális megoldás a magas hőmérsékletű és durva vegyszeres tisztítást igénylő ostyakezelési folyamatokhoz. A Semicorex hordozói finom SiC kristály bevonattal rendelkeznek, amely egyenletes hőprofilt, lamináris gázáramlási mintákat biztosít, és megakadályozza a szennyeződéseket vagy a szennyeződések diffúzióját.
A Semicorexnél arra összpontosítunk, hogy kiváló minőségű, költséghatékony termékeket biztosítsunk ügyfeleinknek. ICP plazma marató tálcánk árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacra exportálják. Célunk, hogy az Ön hosszú távú partnere legyünk, állandó minőségű termékeket és kivételes ügyfélszolgálatot biztosítva.
Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni az ICP plazmatálcáról.

Az ICP plazma maratási tálca paraméterei

Az ICP plazma maratótálca jellemzői

- Kerülje a leválást, és gondoskodjon a bevonatról minden felületen

Magas hőmérsékletű oxidációállóság: Stabil magas hőmérsékleten 1600°C-ig

Nagy tisztaságú: CVD kémiai gőzleválasztással készült magas hőmérsékletű klórozási körülmények között.

Korrózióállóság: nagy keménység, sűrű felület és finom részecskék.

Korrózióállóság: sav, lúg, só és szerves reagensek.

- A legjobb lamináris gázáramlási minta elérése

- Garantálja a termikus profil egyenletességét

- Kerülje el a szennyeződést vagy a szennyeződések diffúzióját