MOCVD SiC bevonatú grafit szuszceptor

A Semicorex MOCVD SiC bevonatú grafit szuszceptor egy fejlett és speciális komponens, amelyet a fém-szerves kémiai gőzleválasztási folyamatban használnak, amely kulcsfontosságú technika a félvezetők, optoelektronikai eszközök és más fejlett anyagok előállításában. Ez a szuszceptor kulcsfontosságú szerepet játszik a vékony filmek és epitaxiális rétegek pontos és hatékony növekedésének elősegítésében.

A MOCVD SiC bevonatú grafit szuszceptor kiváló minőségű grafitból készült, amelyet hőstabilitása és kiváló hővezető képessége miatt választottak ki. A grafitban rejlő tulajdonságok ideális anyaggá teszik a MOCVD reaktorok szigorú körülményeinek ellenálló képességét. A teljesítmény fokozása és élettartamának meghosszabbítása érdekében a grafit szuszceptort aprólékosan bevonják szilícium-karbid (SiC) réteggel.

A MOCVD SiC bevonatú grafit szuszceptor kulcsfontosságú eleme a félvezetőgyártásnak, megtestesítve a legmodernebb anyagok és a precíziós tervezés fúzióját. Tartóssága, hőhatékonysága és védelmi képességei nélkülözhetetlen elemévé teszik a kiváló minőségű, reprodukálható vékony filmek és epitaxiális rétegek keresésében, amelyek elengedhetetlenek a fejlett elektronikus és optoelektronikai eszközök gyártásához.