itthon > Termékek > Szilícium-karbid bevonatú > Palacsinta szuszceptor > Palacsinta szuszceptor ostya epitaxiális folyamathoz
Palacsinta szuszceptor ostya epitaxiális folyamathoz

Palacsinta szuszceptor ostya epitaxiális folyamathoz

A Semicorex palacsinta szuszceptor ostya epitaxiális folyamathoz egy nagy tisztaságú grafit alap, CVD SiC bevonattal. Az ostya epitaxiális eljáráshoz készült palacsintasuszceptorunk jó árelőnnyel rendelkezik, és lefedi a legtöbb európai és amerikai piacot. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

Az ostya epitaxia egy olyan technika, amelyet kiváló minőségű kristályos filmek félvezető hordozón történő növesztésére használnak. Ez magában foglalja a szubsztrátum reaktorkamrába helyezését, és szabályozott környezetnek való kitételét, ahol a kívánt anyagot rétegről rétegre rakják le.

A palacsinta szuszceptor az ostya epitaxiális folyamatához a grafit szuszceptor kerek alakja, amelyet különféle félvezető eljárásokban használnak, például kémiai gőzleválasztásban (CVD) vagy fizikai gőzleválasztásban (PVD), hogy fokozzák a hőmérséklet egyenletességét és elősegítsék a film növekedését.





Hot Tags: Palacsinta szuszceptor ostya epitaxiális folyamathoz, Kína, gyártók, beszállítók, gyári, testreszabott, tömeges, fejlett, tartós

Kapcsolódó kategória

Kérdés küldése

Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept