A szilícium-karbid kerámia a fejlett kerámiaanyag, amely elsősorban szénből és szilíciumból áll. A kiemelkedő teljesítményjellemzőkkel rendelkező szilícium-karbid kerámiát széles körben használják a csúcskategóriás iparágakban, beleértve a mechanikai megmunkálást, a félvezetőgyártást, a hadiipart és......
Olvass továbbA forgácsgyártás vékonyréteg-leválasztási folyamatában gyakran együtt emlegetnek két technológiát, mégis alapvetően különböznek egymástól – az epitaxiás és a kémiai gőzleválasztásról. Olyanok, mint az unokatestvérek, mindkettő a "gőznövekedés" családjába tartozik, de eltérő tulajdonságokkal és erőss......
Olvass továbbA Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC folyamattechnológia elengedhetetlen a nagy teljesítményű teljesítményelektronika gyártásához, amely lehetővé teszi a nagy tisztaságú szilícium-karbid rétegek precíz epitaxiális növekedését a szubsztrát lapkákon. A SiC széles sávszélességének és kiváló hővezető k......
Olvass továbbA kémiai gőzfázisú leválasztási (CVD) eljárás során a gázok főként reaktáns gázokat és vivőgázokat tartalmaznak. A reaktáns gázok atomokat vagy molekulákat biztosítanak a lerakódott anyag számára, míg a vivőgázok a reakciókörnyezet hígítására és szabályozására szolgálnak. Az alábbiakban felsorolunk ......
Olvass továbbA különböző alkalmazási forgatókönyvek eltérő teljesítménykövetelményeket írnak elő a grafittermékekre vonatkozóan, így a pontos anyagválasztás a grafittermékek alkalmazásának alapvető lépése. Az alkalmazási forgatókönyveknek megfelelő teljesítményű grafit alkatrészek megválasztása nemcsak hatékonya......
Olvass tovább