Professzionális gyártóként szeretnénk Önnek SiC Epitaxyt kínálni. És a legjobb értékesítés utáni szolgáltatást és időben történő szállítást kínáljuk Önnek. A Semicorex CVD szilícium-karbid bevonatú grafit szuszceptort szállít az ostyák alátámasztására. Nagy tisztaságú szilícium-karbiddal (SiC) bevont grafit konstrukciójuk kiváló hőállóságot, egyenletes termikus egyenletességet biztosít az egyenletes epiréteg vastagság és ellenállás érdekében, valamint tartós vegyszerállóságot biztosít. A finom SiC kristály bevonat tiszta, sima felületet biztosít, ami kritikus a kezeléshez, mivel az érintetlen ostyák a teljes területükön számos ponton érintkeznek a szuszceptorral.
A Semicorex Epitaxy Component kulcsfontosságú eleme a fejlett félvezető alkalmazásokhoz szükséges kiváló minőségű SiC hordozók előállításának, megbízható választás az LPE reaktorrendszerekhez. A Semicorex Epitaxy Component kiválasztásával az ügyfelek magabiztosak lehetnek befektetéseikben, és növelhetik gyártási képességeiket a félvezetők versenypiacán.*
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex LPE Halfmoon Reaction Chamber nélkülözhetetlen a SiC epitaxia hatékony és megbízható működéséhez, amely biztosítja a kiváló minőségű epitaxiális rétegek előállítását, miközben csökkenti a karbantartási költségeket és növeli a működési hatékonyságot. **
Olvass továbbKérdés küldéseAz Aixtron G5 számára készült Semicorex 6 hüvelykes ostyahordozó számos előnyt kínál az Aixtron G5 berendezésekben való használatra, különösen a magas hőmérsékletű és nagy pontosságú félvezetőgyártási folyamatokban.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex Epitaxy Wafer Carrier rendkívül megbízható megoldást kínál az Epitaxy alkalmazásokhoz. A fejlett anyagok és bevonat technológia biztosítja, hogy ezek a hordozók kiemelkedő teljesítményt nyújtsanak, csökkentve a működési költségeket és a karbantartás vagy csere miatti állásidőt.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex bemutatja SiC Disc Susceptor-ját, amelyet az epitaxiás, fémszerves kémiai gőzleválasztási (MOCVD) és gyors hőfeldolgozási (RTP) berendezések teljesítményének növelésére terveztek. Az aprólékosan megtervezett SiC Disc Susceptor olyan tulajdonságokkal rendelkezik, amelyek kiváló teljesítményt, tartósságot és hatékonyságot garantálnak magas hőmérsékletű és vákuum környezetben.**
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex SiC ALD Susceptor számos előnnyel rendelkezik az ALD folyamatokban, beleértve a magas hőmérsékleti stabilitást, a fokozott film egyenletességét és minőségét, a jobb folyamat hatékonyságát és a szuszceptor meghosszabbítását. Ezek az előnyök a SiC ALD Susceptort értékes eszközzé teszik a nagy teljesítményű vékonyrétegek előállításához különféle igényes alkalmazásokban.**
Olvass továbbKérdés küldése