SiC ICP rézkarc

A Semicorex SiC ICP Etching Disk alkalmazása stratégiai befektetést jelent a folyamatoptimalizálás, a megbízhatóság és végső soron a félvezető eszközök kiváló teljesítménye terén. Az előnyök kézzelfoghatóak:

Továbbfejlesztett maratási pontosság és egységesség:A SiC ICP maratótárcsa kiváló termikus és méretstabilitása hozzájárul az egyenletesebb maratási sebességhez és a precíz funkciók szabályozásához, minimalizálva az ostyák közötti eltéréseket és javítva az eszköz hozamát.

Meghosszabbított lemez élettartam:A SiC ICP maratólemez kivételes keménysége, valamint kopással és korrózióval szembeni ellenálló képessége jelentősen hosszabb lemezélettartamot jelent a hagyományos anyagokhoz képest, csökkentve a csereköltségeket és az állásidőt.

Könnyű a megnövelt teljesítmény érdekében:Kivételes szilárdsága ellenére a SiC ICP maratótárcsa meglepően könnyű anyag. Ez az alacsonyabb tömeg a forgás közbeni tehetetlenségi erők csökkenését eredményezi, ami gyorsabb gyorsítási és lassítási ciklusokat tesz lehetővé, ami javítja a folyamat teljesítményét és a berendezés hatékonyságát.

Megnövelt teljesítmény és termelékenység:A SiC ICP Etching Disk könnyű természete és a gyors hőciklusnak ellenálló képessége hozzájárul a gyorsabb feldolgozási időhöz és a megnövelt áteresztőképességhez, maximalizálva a berendezések kihasználtságát és a termelékenységet.

Csökkentett szennyeződési kockázat:A SiC ICP maratótárcsa kémiai tehetetlensége és plazmamaratással szembeni ellenállása minimálisra csökkenti a részecskék szennyeződésének kockázatát, ami kulcsfontosságú az érzékeny félvezető folyamatok tisztaságának megőrzéséhez és az eszköz minőségének biztosításához.

CVD és vákuumporlasztásos alkalmazások:A maratáson túl a SiC ICP maratótárcsa kivételes tulajdonságai alkalmassá teszik szubsztrátként történő felhasználásra a kémiai gőzleválasztásban (CVD) és a vákuumporlasztásos folyamatokban, ahol elengedhetetlen a magas hőmérsékletű stabilitás és a kémiai tehetetlenség.