SiC szuszceptor az ICP Etch-hez

A Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch gyártása során a magas minőségi és konzisztencia-előírások betartására összpontosítanak. Az ilyen szuszceptorok létrehozásához használt robusztus gyártási folyamatok biztosítják, hogy minden tétel megfeleljen a szigorú teljesítménykritériumoknak, megbízható és konzisztens eredményeket biztosítva a félvezető maratása során. Ezen túlmenően a Semicorex fel van szerelve gyors szállítási ütemezések biztosítására, ami döntő fontosságú a félvezetőipar gyors átállási igényeivel való lépéstartáshoz, biztosítva, hogy a gyártási határidőket a minőség rovására menjen. SiC szuszceptor az ICP Etch-hez, amely egyesíti a minőséget a költséghatékonysággal.**

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch kiváló hővezető képességéről híres, amely gyors és egyenletes hőeloszlást tesz lehetővé a felületen. Ez a tulajdonság kulcsfontosságú az állandó hőmérséklet fenntartása érdekében a maratási folyamat során, így biztosítva a mintaátvitel nagy pontosságát. Ezenkívül a SiC alacsony hőtágulási együtthatója minimálisra csökkenti a méretváltozásokat változó hőmérsékleteken, így megőrzi a szerkezeti integritást, és támogatja a pontos és egyenletes anyageltávolítást.

A SiC Susceptor for ICP Etch egyik kiemelkedő tulajdonsága a plazmaütésekkel szembeni ellenállása. Ez az ellenállás biztosítja, hogy a szuszceptor ne degradáljon vagy erodáljon a plazmabombázás kemény körülményei között, ami gyakori ezekben a marási folyamatokban. Ez a tartósság növeli a maratási folyamat megbízhatóságát, és hozzájárul a tiszta, jól definiált maratási minták létrehozásához minimális hibával.

A SiC Susceptor for ICP Etch eredendően ellenáll az erős savak és lúgok okozta korróziónak, ami az ICP maratási környezetben használt anyagok alapvető tulajdonsága. Ez a kémiai ellenállás biztosítja, hogy az ICP Etch SiC Susceptor for ICP Etch fizikai és mechanikai tulajdonságait idővel megőrizze, még akkor is, ha agresszív kémiai reagenseknek vannak kitéve. Ez a tartósság csökkenti a gyakori csere és karbantartás szükségességét, ezáltal csökkenti a működési költségeket és növeli a félvezetőgyártó létesítmények üzemidejét.

A Semicorex SiC Susceptor for ICP Etch pontosan megtervezhető úgy, hogy megfeleljen a specifikus méretkövetelményeknek, ami kritikus tényező a félvezetőgyártásban, ahol gyakran van szükség testreszabásra a különböző szeletméretekhez és feldolgozási specifikációkhoz. Ez az alkalmazkodóképesség lehetővé teszi a jobb integrációt a meglévő berendezésekkel és folyamatsorokkal, optimalizálva a maratási folyamat általános hatékonyságát és eredményességét.