A SiC bevonat egy vékony réteg a szuszceptorra a kémiai gőzlerakódás (CVD) eljárás révén. A szilícium-karbid anyag számos előnnyel rendelkezik a szilíciummal szemben, beleértve a 10-szeres áttörési elektromos térerőt, a 3-szoros sávközt, amely magas hőmérséklet- és vegyszerállóságot, kiváló kopásállóságot, valamint hővezető képességet biztosít az anyagnak.
A Semicorex személyre szabott szolgáltatást nyújt, segít az innovációban hosszabb élettartamú alkatrészekkel, csökkenti a ciklusidőket és javítja a hozamot.
A SiC bevonat számos egyedi előnnyel rendelkezik
Magas hőmérsékleti ellenállás: A CVD SiC bevonatú szuszceptor akár 1600 °C-ig is ellenáll a magas hőmérsékletnek anélkül, hogy jelentős hődegradáción menne keresztül.
Vegyi ellenállás: A szilícium-karbid bevonat kiváló ellenállást biztosít számos vegyszerrel szemben, beleértve a savakat, lúgokat és szerves oldószereket.
Kopásállóság: A SiC bevonat kiváló kopásállóságot biztosít az anyagnak, így alkalmas a nagy kopással járó alkalmazásokhoz.
Hővezetőképesség: A CVD SiC bevonat magas hővezető képességgel rendelkezik, így alkalmas magas hőmérsékletű alkalmazásokhoz, amelyek hatékony hőátadást igényelnek.
Nagy szilárdság és merevség: A szilícium-karbid bevonatú szuszceptor nagy szilárdságot és merevséget biztosít az anyagnak, így alkalmas a nagy mechanikai szilárdságot igénylő alkalmazásokhoz.
A SiC bevonatot különféle alkalmazásokban használják
LED gyártás: A CVD SiC bevonatú szuszceptort különféle LED-típusok, köztük kék és zöld LED, UV LED és mély-UV LED gyártásánál használják, magas hővezető képessége és vegyszerállósága miatt.
Mobil kommunikáció: A CVD SiC bevonatú szuszceptor a HEMT kulcsfontosságú része a GaN-on-SiC epitaxiális folyamat befejezéséhez.
Félvezető feldolgozás: A CVD SiC bevonatú szuszceptort a félvezetőiparban használják különféle alkalmazásokhoz, beleértve az ostyafeldolgozást és az epitaxiális növekedést.
SiC bevonatú grafit alkatrészek
Szilícium-karbid bevonat (SiC) grafitból készült, a bevonatot CVD-módszerrel hordják fel bizonyos típusú nagy sűrűségű grafitokra, így a magas hőmérsékletű kemencében 3000 °C feletti hőmérsékleten inert atmoszférában, 2200 °C-on vákuumban működik. .
Az anyag különleges tulajdonságai és kis tömege gyors felfűtést, egyenletes hőmérséklet-eloszlást és kiemelkedő vezérlési pontosságot tesz lehetővé.
A Semicorex SiC bevonat anyagadatai
Tipikus tulajdonságok |
Egységek |
Értékek |
Szerkezet |
|
FCC β fázis |
Irányultság |
Töredék (%) |
111 előnyben |
Testsűrűség |
g/cm³ |
3.21 |
Keménység |
Vickers keménység |
2500 |
Hőkapacitás |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Hőtágulás 100-600 °C (212-1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Young's Modulus |
Gpa (4 pt kanyar, 1300º) |
430 |
Szemcseméret |
μm |
2~10 |
Szublimációs hőmérséklet |
℃ |
2700 |
Felexurális Erő |
MPa (RT 4 pontos) |
415 |
Hővezető |
(W/mK) |
300 |
Következtetés A CVD SiC bevonatú szuszceptor egy kompozit anyag, amely egyesíti a szuszceptor és a szilícium-karbid tulajdonságait. Ez az anyag egyedülálló tulajdonságokkal rendelkezik, beleértve a magas hőmérséklet- és vegyszerállóságot, kiváló kopásállóságot, magas hővezető képességet, valamint nagy szilárdságot és merevséget. Ezek a tulajdonságok vonzó anyaggá teszik különféle magas hőmérsékletű alkalmazásokhoz, beleértve a félvezető-feldolgozást, vegyi feldolgozást, hőkezelést, napelemgyártást és LED-gyártást.
Semicorex SiC Parts Abdeck Segmenten, a félvezető eszközök gyártásának kulcsfontosságú eleme, amely újradefiniálja a pontosságot és a tartósságot. A SiC bevonatú grafitból készült, ezek a kicsi, de nélkülözhetetlen alkatrészek kulcsfontosságú szerepet játszanak a félvezető feldolgozás új szintre emelésében a hatékonyság és a megbízhatóság terén.
Olvass továbbKérdés küldéseSemicorex Planetary Disk, szilícium-karbid bevonatú grafit lapka szuszceptor vagy hordozó, amelyet a fém-szerves kémiai gőzleválasztásos (MOCVD) kemencéken belüli molekuláris sugár-epitaxiás (MBE) folyamatokhoz terveztek. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldéseEngedje szabadjára a félvezetőgyártás precíziós csúcsát a csúcstechnológiás CVD SiC Pancake Susceptor segítségével. Ez a korong alakú alkatrész, amelyet szakszerűen félvezető berendezésekhez terveztek, kulcsfontosságú elemként szolgál a vékony félvezető lapkák megtámasztásához magas hőmérsékletű epitaxiális leválasztási folyamatok során. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex SiC Heater szilícium-karbid fűtőelemek egy speciális eszköz, amelyet félvezető lapkák kezelésére és feldolgozására használnak. Ez a kulcsfontosságú berendezés kulcsfontosságú szerepet játszik a jó minőségű félvezető eszközök gyártásához szükséges optimális termikus környezet megteremtésében. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex CVD SiC Coated Graphite Susceptor egy speciális eszköz, amelyet félvezető lapkák kezelésére és feldolgozására használnak. A szuszceptor döntő szerepet játszik a vékony filmek, epitaxiális rétegek és egyéb bevonatok növekedésének elősegítésében a szubsztrátumokon, a hőmérséklet és az anyagtulajdonságok pontos szabályozásával. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex SiC Heating Element Heater Filament SiC Rods egy speciális eszköz, amelyet félvezető lapkák kezelésére és feldolgozására használnak. Ez a kulcsfontosságú berendezés kulcsfontosságú szerepet játszik a jó minőségű félvezető eszközök gyártásához szükséges optimális termikus környezet megteremtésében. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, és reméljük, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldése