A Semicorex TaC bevonatú zuhanyfej a kémiai gőzleválasztási folyamat szerves része, páratlan teljesítményt és hosszú élettartamot biztosítva. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, ezért nagyon várjuk, hogy hosszú távú partnere lehessünk Kínában*.
A Semicorex TaC bevonatos zuhanyfej egy fejlett berendezés, amelyet elsősorban a félvezetőiparban használnak. Kulcsfontosságú eleme a CVD-eljárásnak, ahol vékony filmeket helyeznek fel félvezető lapkákra. A TaC bevonatú zuhanyfej fő funkciója a reaktív gázok egyenletes elosztása az ostya felületén, így biztosítva az egyenletes bevonatot és az optimális filmminőséget.
A tantál-karbidot (TaC) kivételes tulajdonságai miatt választották a zuhanyfej bevonására. A TaC rendkívüli keménységéről, magas olvadáspontjáról, valamint kiváló termikus és kémiai stabilitásáról ismert. Ezek a tulajdonságok a TaC bevonatú zuhanyfejet ideálissá teszik a PECVD-folyamat zord körülményeinek ellenállásához, ahol a magas hőmérséklet és a reaktív gázok uralkodnak. A TaC bevonat jelentősen megnöveli a zuhanyfej tartósságát és élettartamát, csökkentve a gyakori cserék és karbantartások szükségességét.
A TaC bevonatú zuhanyfej kialakítását aprólékosan úgy tervezték, hogy optimalizálja a gázáramlást és -elosztást. Számos pontosan elhelyezett lyukkal rendelkezik, amelyeken keresztül a technológiai gázokat a reakciókamrába vezetik. A gázok egyenletes eloszlása döntő fontosságú az egyenletes filmlerakódás eléréséhez az ostya felületén. A gázáramlás bármilyen szabálytalansága a vékony film meghibásodásához vezethet, ami hátrányosan befolyásolja a félvezető eszközök teljesítményét.
A Semicorex TaC bevonatú zuhanyfej létfontosságú eleme a félvezetőgyártási folyamatnak, páratlan teljesítményt és megbízhatóságot kínálva. A tantál-karbid bevonatból származó kivételes tulajdonságai tartósságot és ellenállóságot biztosítanak a PECVD eljárás zord körülményeivel szemben. A TaC bevonatú zuhanyfej precíz kialakításával és kiváló funkcionalitásával döntő szerepet játszik a kiváló minőségű vékonyréteg-leválasztás elérésében, végső soron hozzájárulva a fejlett félvezető eszközök előállításához. Az ipar fejlődésével az ilyen innovatív alkatrészek jelentősége csak nőni fog, megnyitva az utat a félvezető technológia következő generációja előtt.