TaC bevonat szuszceptor

A TaC (tantál-karbid) bevonatú szuszceptor az anyaggyártás csúcsát képviseli, precízen kidolgozott kiváló minőségű grafitból és tantál-karbid bevonattal van megerősítve. Elsősorban SiC kristálynövekedési és SiC epitaxiális folyamatokban való alkalmazásra tervezett innovatív alkatrész a tartósság és a teljesítmény jelzőfénye extrém termikus és kémiai környezetben.

A TaC bevonat sokrétű célt szolgál, meghosszabbítva a grafit alkatrészek élettartamát, miközben gondosan megőrzi a reakciók sztöchiometriáját, és mérsékli a szennyeződések migrációját a kristálynövekedés és az epitaxiális folyamatok során. Azáltal, hogy megvédi a szennyeződések behatolását az epitaxiális rétegekbe és a kristályképződményekbe, a TaC Coating Susceptor mindig javítja a kihozatali arányt és a minőségi eredményeket.

Úgy tervezték, hogy ellenálljon az ezekben a folyamatokban rejlő hólyagosodási hőmérsékleteknek, a TaC Coating Susceptor kivételes hőstabilitást mutat, és még 2200 °C feletti környezetben is stabil marad. Ez a páratlan rugalmasság zökkenőmentes funkcionalitást biztosít a szélsőséges hőség ellenére is, lehetővé téve a folyamatos, kompromisszumok nélküli működést.

A TaC Coating Susceptor robusztus felépítése áthatolhatatlanná teszi a hidrogén (H2), az ammónia (NH3), a szilán (SiH4) és a szilícium (Si) korrozív hatásaival szemben, ezáltal védőréteget képez a kemény vegyi környezetek szigorával szemben. Ez a jellemző nélkülözhetetlen eszközzé teszi a szigorú kémiai kompatibilitást igénylő alkalmazásokban, biztosítva a működési integritást a legigényesebb körülmények között is.

Ezenkívül a TaC Coating Susceptor kiváló tisztasággal büszkélkedhet, amelyet aprólékosan úgy terveztek, hogy megszüntesse az idegen szennyeződéseket és szennyeződéseket, amelyek veszélyeztethetik a folyamat integritását. Ultra-nagy tisztaságú összetétele garantálja a legnagyobb tisztaságot és megbízhatóságot, kiemelve nélkülözhetetlen szerepét a termékminőség biztosításában és a hozamoptimalizálásban.