Hordó szuszceptor folyadékfázisú epitaxiához

A Semicorex hordós szuszceptor folyadékfázisú epitaxiához a legjobb választás olyan félvezetőgyártási alkalmazásokhoz, amelyek nagy hő- és korrózióállóságot igényelnek. Nagy tisztaságú SiC bevonata és kivételes hővezető képessége kiváló védelmet és hőelosztási tulajdonságokat biztosít, megbízható és egyenletes teljesítményt biztosítva még a legnagyobb kihívást jelentő környezetben is.

A folyadékfázisú epitaxiához készült hordó szuszceptorunkat úgy tervezték, hogy a legjobb lamináris gázáramlási mintát érje el, biztosítva a hőprofil egyenletességét. Ez segít megelőzni a szennyeződéseket vagy a szennyeződések diffúzióját, biztosítva a jó minőségű epitaxiális növekedést az ostya chipen.

Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni a folyadékfázisú epitaxiás hordószuszceptorunkról.

A hordó szuszceptor paraméterei folyadékfázisú epitaxiához

A folyadékfázisú epitaxiás hordó szuszceptor jellemzői

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg jó sűrűségű, és jó védő szerepet játszhat magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.

- Szilícium-karbid bevonatú szuszceptor, amelyet egykristály növesztésre használnak, nagyon magas felületi síkságú.

- Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit szubsztrát és a szilícium-karbid réteg között, hatékonyan javítja a kötési szilárdságot a repedés és a rétegvesztés megakadályozása érdekében.

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg magas hővezető képességgel és kiváló hőelosztási tulajdonságokkal rendelkezik.

- Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációállóság, korrózióállóság.