Hordó szuszceptor folyadékfázisú epitaxiához

Ha olyan grafit szuszceptorra van szüksége, amely megbízhatóan és egyenletesen működik még a legigényesebb magas hőmérsékletű és korrozív környezetben is, a Semicorex hordós szuszceptor folyadékfázisú epitaxiához a tökéletes választás. Szilícium-karbid bevonata kiváló hővezető képességet és hőeloszlást biztosít, kivételes teljesítményt biztosítva a félvezetőgyártási alkalmazásokban.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex hordós szuszceptor folyadékfázisú epitaxiához a legjobb választás olyan félvezetőgyártási alkalmazásokhoz, amelyek nagy hő- és korrózióállóságot igényelnek. Nagy tisztaságú SiC bevonata és kivételes hővezető képessége kiváló védelmet és hőelosztási tulajdonságokat biztosít, megbízható és egyenletes teljesítményt biztosítva még a legnagyobb kihívást jelentő környezetben is.

A folyadékfázisú epitaxiához készült hordó szuszceptorunkat úgy tervezték, hogy a legjobb lamináris gázáramlási mintát érje el, biztosítva a hőprofil egyenletességét. Ez segít megelőzni a szennyeződéseket vagy a szennyeződések diffúzióját, biztosítva a jó minőségű epitaxiális növekedést az ostya chipen.

Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni a folyadékfázisú epitaxiás hordószuszceptorunkról.

A hordó szuszceptor paraméterei folyadékfázisú epitaxiához

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A folyadékfázisú epitaxiás hordó szuszceptor jellemzői

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg jó sűrűségű, és jó védő szerepet játszhat magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.

- Az egykristály növesztéshez használt szilícium-karbid bevonatú szuszceptor nagyon magas felületi síksággal rendelkezik.

- Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit szubsztrát és a szilícium-karbid réteg között, hatékonyan javítja a kötési szilárdságot a repedés és a rétegvesztés megakadályozása érdekében.

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg magas hővezető képességgel és kiváló hőelosztási tulajdonságokkal rendelkezik.

- Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációállóság, korrózióállóság.