A nagy teljesítményű CVD SiC anyagokból készült Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez a döntő gyűrűrész, amelyet kifejezetten a precíziós félvezető maratási folyamatokban használt TEL VIGUS RK4 berendezésekhez terveztek. A Semicorex választása azt jelenti, hogy az ideális CVD SiC megoldásokat kapja a pontos és egyenletes maratási eredmények eléréséhez.
A plazmamaratási folyamat során a reakciókamrában a plazma egyenetlen eloszlása súlyos hibákhoz vezethet a lapka élén, ami csökkenti a félvezető eszköz hozamát. Semicorex CVD SiCfókuszgyűrűmert a 2L10-506419-21 ideális alkatrész ennek a fájdalomnak a kezelésére. Általában az elektrosztatikus tokmányra van felszerelve, és az ostya széle körül helyezik el. A Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez képes fókuszálni a plazmát a lapka felületére, és optimalizálni az elektromos téreloszlást a reakciókamrán belül. Ily módon hatékonyan tudja megelőzni az ostyaél túlmaratásának jelenségét, ezáltal precíz és egyenletes marási eredményt biztosít.
1. Javíthatja a maratási egyenletességet, és konzisztens marási sebességet tarthat fenn a lapka közepe és éle között, így növelve a végső félvezető chipek hozamát.
2. Segíthet stabil maratási feltétel létrehozásában, hogy minimalizálja a folyamat eltérését és a részecskeszennyeződést, amelyet az egyenetlen plazmaeloszlás okoz.
3. Árnyékolhatja az ostya szélét, hogy megakadályozza a plazma által kiváltott túlmaratást és az élek károsodását.
SemicorexCVD SiCA 2L10-506419-21 fókuszgyűrűje pontosan szilárd CVD SiC anyagokból készül. A CVD-eljárás jelentősen javíthatja a szilícium-karbid szerkezeti és funkcionális teljesítményét, így a Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez a következő kiváló tulajdonságokkal rendelkezik a komplex maratási működési környezetek teljesítéséhez.
1. Ultra-nagy tisztaságú, és szennyezőanyag-tartalma kevesebb, mint 5 ppm.
2.Nagy mechanikai szilárdság a sűrű belső szerkezetüknek köszönhetően.
3. Kiváló hőkezelési képesség, nincs olvadás vagy lágyulás az anyagban 2000°C körüli hőmérsékleten.
4. Kivételes korrózióállóság, ellenáll a plazmamarásnak és a folyamatgázok, köztük a HF, HCl és NH₃ általi eróziónak.
A Semicorex mindig a komponensek pontosságát és minőségét tartja elsődlegesnek, és a CVD SiC fókuszgyűrűket szigorúan a félvezetőipar professzionális precíziós szabványai szerint gyártja, így a Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21 számára tökéletes illeszkedést és zökkenőmentes összeszerelést biztosít a TEL VIGUS RK4 berendezéssel.