itthon > Termékek > CVD SIC > CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez
CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez

CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez

A nagy teljesítményű CVD SiC anyagokból készült Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez a döntő gyűrűrész, amelyet kifejezetten a precíziós félvezető maratási folyamatokban használt TEL VIGUS RK4 berendezésekhez terveztek. A Semicorex választása azt jelenti, hogy az ideális CVD SiC megoldásokat kapja a pontos és egyenletes maratási eredmények eléréséhez.

Kérdés küldése

termékleírás

A plazmamaratási folyamat során a reakciókamrában a plazma egyenetlen eloszlása ​​súlyos hibákhoz vezethet a lapka élén, ami csökkenti a félvezető eszköz hozamát. Semicorex CVD SiCfókuszgyűrűmert a 2L10-506419-21 ideális alkatrész ennek a fájdalomnak a kezelésére. Általában az elektrosztatikus tokmányra van felszerelve, és az ostya széle körül helyezik el. A Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez képes fókuszálni a plazmát a lapka felületére, és optimalizálni az elektromos téreloszlást a reakciókamrán belül. Ily módon hatékonyan tudja megelőzni az ostyaél túlmaratásának jelenségét, ezáltal precíz és egyenletes marási eredményt biztosít.

CVD SiC focus ring for 2L10-506419-21


A Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű funkciói a 2L10-506419-21-hez


1. Javíthatja a maratási egyenletességet, és konzisztens marási sebességet tarthat fenn a lapka közepe és éle között, így növelve a végső félvezető chipek hozamát.


2. Segíthet stabil maratási feltétel létrehozásában, hogy minimalizálja a folyamat eltérését és a részecskeszennyeződést, amelyet az egyenetlen plazmaeloszlás okoz.


3. Árnyékolhatja az ostya szélét, hogy megakadályozza a plazma által kiváltott túlmaratást és az élek károsodását.


Kiváló anyagtulajdonságok

SemicorexCVD SiCA 2L10-506419-21 fókuszgyűrűje pontosan szilárd CVD SiC anyagokból készül. A CVD-eljárás jelentősen javíthatja a szilícium-karbid szerkezeti és funkcionális teljesítményét, így a Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21-hez a következő kiváló tulajdonságokkal rendelkezik a komplex maratási működési környezetek teljesítéséhez.

1. Ultra-nagy tisztaságú, és szennyezőanyag-tartalma kevesebb, mint 5 ppm.


2.Nagy mechanikai szilárdság a sűrű belső szerkezetüknek köszönhetően.


3. Kiváló hőkezelési képesség, nincs olvadás vagy lágyulás az anyagban 2000°C körüli hőmérsékleten.


4. Kivételes korrózióállóság, ellenáll a plazmamarásnak és a folyamatgázok, köztük a HF, HCl és NH₃ általi eróziónak.


Nagy pontosságú minőségellenőrzés

A Semicorex mindig a komponensek pontosságát és minőségét tartja elsődlegesnek, és a CVD SiC fókuszgyűrűket szigorúan a félvezetőipar professzionális precíziós szabványai szerint gyártja, így a Semicorex CVD SiC fókuszgyűrű a 2L10-506419-21 számára tökéletes illeszkedést és zökkenőmentes összeszerelést biztosít a TEL VIGUS RK4 berendezéssel.


Hot Tags: CVD SiC fókuszgyűrű 2L10-506419-21, Kína, gyártók, beszállítók, gyári, testreszabott, tömeges, fejlett, tartós
Kapcsolódó kategória
Kérdés küldése
Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat
Elutasít Elfogadás