CVD SiC fókuszgyűrű

Fejlett kémiai gőzfázisú leválasztási (CVD) eljárás

A CVD SiC Focus Ring gyártása során alkalmazott CVD-eljárás magában foglalja a szilícium-karbid precíz leválasztását meghatározott formákba, majd szigorú mechanikai feldolgozást. Ez a módszer biztosítja, hogy az anyag ellenállási paraméterei konzisztensek legyenek, köszönhetően a kiterjedt kísérletezés után meghatározott rögzített anyagaránynak. Az eredmény egy páratlan tisztaságú és egyenletes fókuszgyűrű.

Kiváló plazma ellenállás

A CVD SiC Focus Ring egyik leglenyűgözőbb tulajdonsága a plazmával szembeni kivételes ellenállás. Tekintettel arra, hogy a fókuszgyűrűk közvetlenül ki vannak téve a plazmának a vákuum reakciókamrán belül, kiemelkedően fontos olyan anyag szükségessége, amely képes elviselni az ilyen zord körülményeket. A 99,9995%-os tisztaságú SiC nemcsak a szilícium elektromos vezetőképességét osztja meg, hanem kiváló ellenállást biztosít az ionos maratással szemben, így ideális választás plazmamaratáshoz.

Nagy sűrűség és csökkentett maratási hangerő

A szilícium (Si) fókuszgyűrűkkel összehasonlítva a CVD SiC fókuszgyűrű nagyobb sűrűséggel büszkélkedhet, ami jelentősen csökkenti a maratási mennyiséget. Ez a tulajdonság döntő fontosságú a fókuszgyűrű élettartamának meghosszabbításában és a félvezető gyártási folyamat integritásának megőrzésében. A csökkentett maratási mennyiség kevesebb megszakítást és alacsonyabb karbantartási költségeket jelent, ami végső soron javítja a termelés hatékonyságát.

Széles sávszélesség és kiváló szigetelés

A SiC széles sávszélessége kiváló szigetelési tulajdonságokat biztosít, amelyek elengedhetetlenek ahhoz, hogy megakadályozzák a nem kívánt elektromos áramok megzavarását a maratási folyamatban. Ez a tulajdonság biztosítja, hogy a fókuszgyűrű hosszú ideig megőrizze teljesítményét, még a legnehezebb körülmények között is.

Hővezető képesség és hősokkállóság

A CVD SiC fókuszgyűrűk magas hővezető képességgel és alacsony tágulási együtthatóval rendelkeznek, így rendkívül ellenállóak a hősokkokkal szemben. Ezek a tulajdonságok különösen előnyösek a gyors hőfeldolgozást (RTP) érintő alkalmazásokban, ahol a fókuszgyűrűnek ellenállnia kell az intenzív hőimpulzusoknak, amelyeket gyors lehűlés követ. A CVD SiC Focus Ring képessége, hogy ilyen körülmények között is stabil marad, nélkülözhetetlenné teszi a modern félvezetőgyártásban.

Mechanikai szilárdság és tartósság

A CVD SiC Focus Ring nagy rugalmassága és keménysége kiváló ellenállást biztosít a mechanikai behatásokkal, kopással és korrózióval szemben. Ezek a tulajdonságok biztosítják, hogy a fókuszgyűrű kibírja a félvezetőgyártás szigorú követelményeit, megőrizve szerkezeti integritását és teljesítményét az idő múlásával.

Alkalmazások különböző iparágakban

1. Félvezető gyártás

A félvezetőgyártás területén a CVD SiC Focus Ring a plazmamarató berendezések alapvető eleme, különösen azoké, amelyek kapacitív csatolású plazma (CCP) rendszereket használnak. Az ezekben a rendszerekben szükséges nagy plazmaenergia felbecsülhetetlen értékűvé teszi a CVD SiC Focus Ring plazmaellenállását és tartósságát. Ezen túlmenően kiváló termikus tulajdonságai kiválóan alkalmassá teszik az RTP alkalmazásokhoz, ahol gyakoriak a gyors fűtési és hűtési ciklusok.

2. LED ostyahordozók

A CVD SiC Focus Ring nagyon hatékony a LED-es lapkahordozók gyártásában is. Az anyag hőstabilitása és kémiai korrózióval szembeni ellenállása biztosítja, hogy a fókuszgyűrű ellenálljon a LED-ek gyártása során fennálló zord körülményeknek. Ez a megbízhatóság nagyobb hozamot és jobb minőségű LED szeleteket jelent.

3. Porlasztó célpontok

Porlasztásos alkalmazásokban a CVD SiC Focus Ring nagy keménysége és kopásállósága ideális választássá teszi a porlasztó célpontok számára. A fókuszgyűrű azon képessége, hogy megőrizze szerkezeti integritását nagy energiájú behatások esetén is, egyenletes és megbízható porlasztási teljesítményt biztosít, ami kritikus fontosságú a vékony filmek és bevonatok előállításánál.