> Termékek > Kerámiai > Szilícium-karbid (SiC) > Tartós fókuszgyűrűk félvezető-feldolgozáshoz

Termékek

új termékek

Tartós fókuszgyűrűk félvezető-feldolgozáshoz

A félvezető-feldolgozáshoz használt Semicorex tartós fókuszgyűrűket úgy tervezték, hogy ellenálljanak a félvezető-feldolgozásban használt plazmamaratási kamrák szélsőséges környezeti hatásainak. Fókuszgyűrűink nagy tisztaságú grafitból készülnek, amely sűrű, kopásálló szilícium-karbid (SiC) bevonattal van bevonva. A SiC bevonat magas korrózió- és hőálló tulajdonságokkal, valamint kiváló hővezető képességgel rendelkezik. Vékony rétegekben SiC-ot viszünk fel a grafitra a kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárással, hogy javítsuk fókuszgyűrűink élettartamát.

Kérdés küldése

termékleírás

Tartós, félvezető-feldolgozáshoz használt fókuszgyűrűinket úgy tervezték, hogy javítsák a maratási egyenletességet a lapka szélén vagy kerületén, minimalizálva a szennyeződést és a nem tervezett karbantartást. Rendkívül stabilak a gyors hőkezeléshez (RTA), a gyors hőkezeléshez (RTP) és a kemény vegyszeres tisztításhoz.

A Semicorexnél a kiváló minőségű, költséghatékony, tartós fókuszgyűrűk biztosítására összpontosítunk a félvezető-feldolgozáshoz, előtérbe helyezzük az ügyfelek elégedettségét és költséghatékony megoldásokat kínálunk. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk, kiváló minőségű termékeket szállítva és kivételes ügyfélszolgálattal.

Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni a félvezető-feldolgozáshoz használt tartós fókuszgyűrűinkről.

Tartós fókuszgyűrűk paraméterei félvezető feldolgozáshoz

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300