MOCVD vákuumkamra fedél

A kristálynövesztéshez és az ostyakezeléshez használt MOCVD vákuumkamra fedélnek el kell viselnie a magas hőmérsékletet és a kemény vegyszeres tisztítást. A Semicorex szilícium-karbid bevonatú MOCVD vákuumkamra fedél kifejezetten megfelel ezeknek a kihívásokkal teli környezeteknek. Termékeink jó árelőnnyel rendelkeznek, és számos európai és amerikai piacot lefednek. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex Graphite komponensei nagy tisztaságú SiC bevonatú grafit, amelyet az egykristály- és ostyatermesztési folyamat során használnak fel. A MOCVD vákuumkamra fedeles keverék nagy hő- és korrózióállósággal rendelkezik, tartósak az illékony prekurzor gázok, a plazma és a magas hőmérséklet kombinációjával szemben.

A Semicorexnél elkötelezettek vagyunk amellett, hogy kiváló minőségű termékeket és szolgáltatásokat nyújtsunk ügyfeleinknek. Csak a legjobb anyagokat használjuk, termékeinket úgy terveztük, hogy megfeleljenek a legmagasabb minőségi és teljesítménykövetelményeknek. Ez alól a MOCVD vákuumkamra fedele sem kivétel. Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni arról, hogyan tudunk segíteni a félvezető lapkák feldolgozásával kapcsolatos igényeinek kielégítésében.

A MOCVD vákuumkamra fedelének paraméterei

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályos szerkezet	FCC Î² fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	Î¼m	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J·kg-1 ·K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pt kanyar, 1300º)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezető	(W/mK)	300