Folyékony fázisú epitaxiás (LPE) reaktorrendszer

A Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) reaktorrendszer egy innovatív termék, amely kiváló hőteljesítményt, egyenletes hőprofilt és kiváló bevonattapadást kínál. Nagy tisztasága, magas hőmérsékletű oxidációval szembeni ellenállása és korrózióállósága ideális választássá teszi a félvezetőiparban való használatra. Testreszabható opciói és költséghatékonysága rendkívül versenyképes termékké teszik a piacon.

Kérdés küldése

termékleírás

Folyékony fázisú epitaxiás (LPE) reaktorrendszerünk rendkívül megbízható és tartós termék, amely kiváló ár-érték arányt biztosít. Magas hőmérsékletű oxidációval szembeni ellenállása, egyenletes termikus profilja és a szennyeződés megakadályozása ideálissá teszi a kiváló minőségű epitaxiális réteg növekedéséhez. Alacsony karbantartási igénye és testreszabhatósága rendkívül versenyképes termékké teszi a piacon.

A Semicorexnél arra összpontosítunk, hogy kiváló minőségű, költséghatékony termékeket biztosítsunk ügyfeleinknek. Folyékony fázisú epitaxiás (LPE) reaktorrendszerünk árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacra exportálják. Célunk, hogy az Ön hosszú távú partnere legyünk, állandó minőségű termékeket és kivételes ügyfélszolgálatot biztosítva.

Lépjen kapcsolatba velünk még ma, ha többet szeretne megtudni Liquid Phase Epitaxy (LPE) reaktorrendszerünkről.

A folyadékfázisú epitaxiás (LPE) reaktorrendszer paraméterei

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A folyadékfázisú epitaxiás (LPE) reaktorrendszer jellemzői

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg jó sűrűségű, és jó védő szerepet játszhat magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.

- Az egykristály növesztéshez használt szilícium-karbid bevonatú szuszceptor nagyon magas felületi síksággal rendelkezik.

- Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit szubsztrát és a szilícium-karbid réteg között, hatékonyan javítja a kötési szilárdságot a repedés és a rétegvesztés megakadályozása érdekében.

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg magas hővezető képességgel és kiváló hőelosztási tulajdonságokkal rendelkezik.

- Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációállóság, korrózióállóság.