Monokristályos szilícium síktárgy

Monokristályos szilíciuma síkcélt általában nagy pontosságú vágóberendezéssel dolgozzák fel Czochralski-módszerrel előállított monokristályos szilícium tuskóból. A vevői igények diverzifikációjának kielégítése érdekében a monokristályos szilícium síktárgyak a kívánt formákra vághatók tisztelt vásárlói számára. A precíz csiszolási és polírozási feldolgozási technológia biztosítja a célanyag kiváló felületi síkságát, erős garanciát adva a vékonyrétegek lerakódására.

A monokristályos szilícium síktárgyat egy vákuum reakciókamrába helyezik a bevonandó szubsztrátummal együtt a filmleválasztási folyamat során. Amikor a monokristályos szilícium síktárgyat nagy energiájú ionok bombázzák, a felületén lévő szilícium atomok kiporlasztanak. Ezek a porlasztott szilícium atomok azután vándorolnak és lerakódnak a hordozó felületére, végül szilícium vékony filmet képezve.

A monokristályos szilícium síktárgy anyagforrásként szolgál a vékonyréteg-leválasztáshoz. Az ostya felületére lerakódott összes szilícium atom monokristályos szilícium síktárgyakból származik. Ezért a monokristályos szilícium síktárgy minősége közvetlenül meghatározza a lerakott vékony film tisztaságát, egyenletességét és egyéb kulcsfontosságú tulajdonságait.

A kiváló tisztasági jellemzők monokristályos szilícium síktárgyat biztosítanak azzal a képességgel, hogy megakadályozzák a szennyeződések beszennyeződését a vékony filmben. Ez jelentősen javítja a félvezető eszközök elektromos teljesítményét. A vékonyrétegek egyenletességének és adhéziójának javítása a rendkívül rendezett kristályszerkezetnek köszönhető, amely lehetővé teszi a porlasztó részecskék rendszeresebb vándorlását és lerakódását az ostya felületén. A sík szerkezeti kialakítás alkalmas nagy felületű és nagy sebességű porlasztási követelményekre, és alkalmazható nagyméretű gyártási forgatókönyvekre, például félvezető lapkákra és kijelzőpanelekre.