Szilikon talapzatú csónak

A Semicorex Silicon Pedestal Boat egy ultra-tiszta ostyahordozó, amelyet nagy tisztasággal és pontossággal úgy terveztek, hogy támogassa a magas hőmérsékletű félvezető folyamatokat, mint például az oxidációt, diffúziót és az LPCVD-t (alacsony nyomású kémiai gőzlerakódás). Ez az ostyahordozó 9N (99,9999999%) anyagból készültnagy tisztaságú szilíciuma kivételes tisztaság, a hőtágulási stabilitás és a mechanikai precizitás biztosítása az ostya alátámasztásához és a következetes folyamatszabályozáshoz ultratiszta környezetben.

Mivel a félvezető eszközök geometriája folyamatosan zsugorodik, az ultratiszta és termikusan kompatibilis lapkakezelő alkatrészek iránti igény még soha nem volt ekkora kereslet. A szilícium talapzatú csónak nagy méretpontossággal és páratlan tisztasággal elégíti ki ezeket az igényeket, és 1100°C és 1250°C között működő fejlett kemencerendszerekben használható.

A szilícium csónak szerkezete testreszabható az ügyfelek igényeinek megfelelően, beleértve a horonyrúd alakját, a horonyfoghosszt, az alakot, a dőlésszöget és a teljes szelet terhelhetőségét. A magas hőmérsékletű szilícium csónakok hatékonyan csökkenthetik a szilíciumlapkák érintkezési sérülését, javítva a folyamathozamot. Magas hőmérsékletű "csúszásmentes tornyok" kialakítása csak a tartófog csúcsánál tartja az ostyákat. A szilícium-karbidhoz képest a szilícium viszonylag kevésbé kemény, csökkenti az ostyák mechanikai sérülését, ezáltal javítja a rács minőségét és hatékonyan csökkenti a gyártási költségeket.

A talapzatú csónak itt érhető elmonokristályos vagy polikristályos szilíciuma nem szilícium anyagokkal kapcsolatos szennyeződési kockázatok megszüntetésére. A platform ugyanolyan kémiai összetételű, mint az aktívan használt ostyák, ami minimalizálja a nem kívánt reakciókat vagy az iondiffúziót a magas hőmérsékletű folyamatok során. Az anyag homogenitása lényegesen csökkenti a részecskék és a fémszennyeződések fizikai azonosságát, így az ismételt gyártási ciklusokon keresztül folyamatosan jó ostyaminőséget és magas készülékkihozatalt tesz lehetővé.

A szilikon talapzatú csónak kompatibilis az oxidációs és diffúziós folyamatokkal, valamint az LPCVD-vel és a hőkezelési alkalmazásokkal, amelyek felülmúlhatatlan hőmérsékleti egyenletességet és szennyeződés-ellenőrzést igényelnek. A szilícium talapzatú csónak kompatibilis a szilícium kemence egyéb alkatrészeivel, például az injektorcsővel, a béléscsővel és az ostyahordozóval, fenntartva az anyagokat és a termikus illeszkedést az egész feldolgozási rendszerben.

A szilikon talapzatú hajó elsődleges előnye az optimalizált mechanikai és termikus tulajdonságai. A szilícium szilícium-karbamidhoz vagy kvarchoz viszonyított keménysége segít csökkenteni a mikrokarcolódást és a részecskeképződést az ostya vibrációja vagy a hevített tágulás során bekövetkező mozgás miatt. Ez különösen igaz a hátoldalra érzékeny lapkákra, ahol az ostya felületének integritása kritikus a hozam és az eszköz teljesítménye szempontjából.

A Semicorex egyedi kialakításokat kínál különféle berendezés-konfigurációkhoz, beleértve az ostya átmérőjét, a nyílások számát, a talapzat magasságát és a geometriai változatokat. Minden termék tisztaságának ellenőrzése, méretmérése és hővezető képességének vizsgálata megtörténik, hogy megfeleljen a félvezetőgyártási folyamat legmagasabb követelményeinek.

A Semicorex egyedi kialakításokat kínál különféle berendezés-konfigurációkhoz, beleértve az ostya átmérőjét, a nyílások számát, a talapzat magasságát és a geometriai változatokat. Minden termék tisztaságának ellenőrzése, méretmérése és hővezető képességének vizsgálata megtörténik, hogy megfeleljen a félvezetőgyártási folyamat legmagasabb követelményeinek.

A szilikon talapzatú csónak kompatibilis az oxidációs és diffúziós folyamatokkal, valamint az LPCVD-vel és a hőkezelési alkalmazásokkal, amelyek felülmúlhatatlan hőmérsékleti egyenletességet és szennyeződés-ellenőrzést igényelnek. A szilícium talapzatú csónak kompatibilis a szilícium kemence egyéb alkatrészeivel, például az injektorcsővel, a béléscsővel és az ostyahordozóval, fenntartva az anyagokat és a termikus illeszkedést az egész feldolgozási rendszerben.