itthon > Termékek > Kerámiai > Szilícium-karbid (SiC) > RTA SiC ostyahordozók
RTA SiC ostyahordozók

RTA SiC ostyahordozók

A Semicorex RTA SiC lapkahordozók az alapvető ostyahordozó eszközök, amelyeket kifejezetten a félvezetőgyártás gyors termikus lágyítási folyamatára terveztek. A Semicorex RTA SiC lapkahordozók az optimális megoldások a gyors termikus lágyítási folyamathoz, amely segíthet javítani a félvezető gyártási hozamot és javítani a félvezető eszközök teljesítményét.

Kérdés küldése

termékleírás

A gyors hőkezelés a félvezetőgyártásban széles körben használt termikus feldolgozási technika. Hőforrásként halogén infralámpákat használva gyorsan felmelegíti az ostyákat vagy félvezető anyagokat 300 ℃ és 1200 ℃ közötti hőmérsékletre, rendkívül gyors fűtési sebességgel, majd gyors hűtéssel. A gyors hőkezelési eljárás megszüntetheti a maradék feszültséget és a hibákat a lapkákon és a félvezető anyagokon belül, javítva az anyag minőségét és teljesítményét. Az RTA SiC lapkahordozók az RTA folyamatokban széles körben használt nélkülözhetetlen hordozóelemek, amelyek működés közben stabilan meg tudják tartani a lapkát és a félvezető anyagokat, és egyenletes hőkezelési hatást biztosítanak.





A Semicorex RTA SiC lapkahordozók előnyei


1. Kiváló mechanikai szilárdság és keménység

A Semicorex RTA SiC lapkahordozók kiváló mechanikai szilárdságot és keménységet biztosítanak, és képesek ellenállni a különféle mechanikai igénybevételeknek zord RTA körülmények között, miközben méretstabilak és tartósak maradnak. Kiváló keménységüknek köszönhetően az RTA SiC ostyahordozók felülete kevésbé karcolásos, ami egy lapos, sima tartófelületet biztosít, amely hatékonyan megelőzi a hordozókarcok okozta ostyakárosodást.


2. Kivételes hővezető képesség

A Semicorex RTA SiC ostyahordozók kivételes hővezető képességgel rendelkeznek, lehetővé téve számukra a hő hatékony eloszlását és vezetését. Pontos hőmérséklet-szabályozást tudnak biztosítani a gyors termikus feldolgozás során, ami jelentősen csökkenti az ostyák hőkárosodásának kockázatát, és javítja az izzítási folyamat egyenletességét és konzisztenciáját.


3. Kiváló termikus stabilitás

A szilícium-karbid olvadáspontja körülbelül 2700°C, és kiemelkedő stabilitást tart fenn 1350-1600°C közötti folyamatos üzemi hőmérsékleten. Ez ad SemicorexotRTA SiC lapkahordozókkiváló hőstabilitás magas hőmérsékletű RTA működési feltételekhez. Ezenkívül alacsony hőtágulási együtthatójukkal a Semicorex RTA SiC lapkahordozók elkerülhetik a repedéseket vagy a gyors fűtési és hűtési ciklusok során az egyenetlen hőtágulás és összehúzódás okozta károsodást.


4. Kiváló alacsony szennyeződési teljesítmény

Gondosan kiválasztott, nagy tisztaságú anyagból készültszilícium-karbid, A Semicorex RTA SiC ostyahordozók alacsony szennyeződést tartalmaznak. Figyelemre méltó vegyszerállóságuknak köszönhetően a Semicorex RTA SiC szelethordozók képesek elkerülni a technológiai gázok korrózióját a gyors termikus izzítás során, ezáltal minimálisra csökkentik a reaktánsok által okozott ostyaszennyeződést és megfelelnek a félvezetőgyártási folyamatok szigorú tisztasági követelményeinek.



Hot Tags: RTA SiC Wafer Carriers, Kína, gyártók, beszállítók, gyári, testreszabott, tömeges, fejlett, tartós
Kapcsolódó kategória
Kérdés küldése
Kérdését az alábbi űrlapon adja meg. 24 órán belül válaszolunk.
X
Cookie-kat használunk, hogy jobb böngészési élményt kínáljunk, elemezzük a webhely forgalmát és személyre szabjuk a tartalmat. Az oldal használatával Ön elfogadja a cookie-k használatát. Adatvédelmi szabályzat
Elutasít Elfogadás