A Semicorex RTP hordozó szilícium-karbid bevonatú kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárással, amely igazán stabil RTA, RTP vagy durva vegyszeres tisztításhoz. A félvezető folyamat magjában az epitaxia szuszceptorok először a lerakódási környezet hatásának vannak kitéve, így magas hő- és korrózióállósággal rendelkezik. A SiC bevonatú hordozónak magas a hővezető képessége és kiváló hőeloszlási tulajdonságai is vannak.
● Nagy tisztaságú SiC bevonatú grafit
● Kiváló hőállóság és vegyszerállóság
● Magas termikus egyenletesség
● Kiváló kopásállóság
A Semicorex SiC bevonatú RTP hordozólemez az epitaxiális növekedéshez tökéletes megoldás a félvezető lapkák feldolgozásához. Kiváló minőségű széngrafit szuszceptoraival és MOCVD-vel feldolgozott kvarctégelyeivel grafit, kerámia stb. felületén ez a termék ideális ostyakezeléshez és epitaxiális növesztéshez. A SiC bevonatú hordozó magas hővezető képességet és kiváló hőeloszlási tulajdonságokat biztosít, így megbízható választás RTA, RTP vagy kemény vegyszeres tisztításhoz.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex a szilícium-karbid bevonatú grafit szuszceptor nagyméretű gyártója és szállítója Kínában. Semicorex grafit szuszceptor, amelyet kifejezetten az epitaxiás berendezésekhez terveztek, magas hő- és korrózióállósággal Kínában. Az RTP RTA SiC bevonatos hordozónk jó árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacot lefed. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk.
Olvass továbbKérdés küldéseA Semicorex RTP Carrier for MOCVD Epitaxial Growth ideális a félvezető lapkák feldolgozásához, beleértve az epitaxiális növekedést és a lapkakezelési feldolgozást. A széngrafit szuszceptorokat és kvarctégelyeket MOCVD-vel dolgozzák fel grafit, kerámia stb. felületén. Termékeink jó árelőnnyel rendelkeznek, és számos európai és amerikai piacot lefednek. Bízunk benne, hogy hosszú távú partnere lehetünk Kínában.
Olvass továbbKérdés küldése