SiC bevonatú hordó szuszceptor az epitaxiális növekedéshez

Kiváló sűrűségével és hővezető képességével a Semicorex SiC bevonatú hordó szuszceptor az epitaxiális növekedéshez ideális választás magas hőmérsékletű és korrozív környezetben való használatra. A nagy tisztaságú SiC bevonatú grafit termék kiváló védelmet és hőelosztást biztosít, megbízható és egyenletes teljesítményt biztosítva a félvezetőgyártási alkalmazásokban.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex SiC bevonatú hordó szuszceptor az epitaxiális növekedéshez tökéletes választás a félvezető lapkák epixiális rétegének kialakításához, kiváló hővezető képességének és hőeloszlási tulajdonságainak köszönhetően. Szilícium-karbid bevonata kiváló védelmet nyújt még a legigényesebb magas hőmérsékletű és korrozív környezetben is.

A Semicorexnél arra összpontosítunk, hogy kiváló minőségű, költséghatékony termékeket biztosítsunk ügyfeleinknek. SiC bevonatú hordó szuszceptorunk epitaxiális növekedéshez árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacra exportálják. Célunk, hogy az Ön hosszú távú partnere legyünk, állandó minőségű termékeket és kivételes ügyfélszolgálatot biztosítva.

A SiC bevonatú hordó szuszceptor paraméterei az epitaxiális növekedéshez

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályszerkezet	FCC β fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	μm	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J kg-1 K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pont kanyar, 1300 ℃)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezetőképesség	(W/mK)	300

A SiC bevonatú hordó szuszceptor jellemzői az epitaxiális növekedéshez

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg jó sűrűségű, és jó védő szerepet játszhat magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.

- Az egykristály növesztéshez használt szilícium-karbid bevonatú szuszceptor nagyon magas felületi síksággal rendelkezik.

- Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit szubsztrát és a szilícium-karbid réteg között, hatékonyan javítja a kötési szilárdságot a repedés és a rétegvesztés megakadályozása érdekében.

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg magas hővezető képességgel és kiváló hőelosztási tulajdonságokkal rendelkezik.

- Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációállóság, korrózióállóság.