A Semicorex SiC Flat Sheet Membrane egy nagy teljesítményű kerámia ultraszűrő membrán újrakristályosított szilícium-karbidból, amely kivételes áteresztőképességet, szennyeződésállóságot és hosszú távú stabilitást biztosít az igényes vízkezelési alkalmazásokban. A Semicorex a fejlett SiC anyagtervezést, az ultramagas hőmérsékletű szinterezési szakértelmet és a szigorú minőség-ellenőrzést ötvözi, hogy megbízható, nagy hatékonyságú SiC síklemez membránt biztosítson, amelyben világszerte megbíznak az ipari és önkormányzati rendszerek.*
Anyag- és gyártási folyamat
A Semicorex SiC lapos lemezmembrán nagy tisztaságú szilícium-karbid (SiC) porból készül, és ultramagas hőmérsékleten szinterelik. A szilícium-karbid széles körben elismert az egyik leghidrofilebb kerámia membránanyag, amely kiemelkedő lerakódásgátló teljesítményt, kiváló vegyszerállóságot és hosszú élettartamot kínál. Az átkristályosított szilícium-karbid szerkezetek nyitott porozitása több mint45%, biztosítva a nagy áteresztőképességet és a stabil szűrési hatékonyságot.
A SiC Flat Sheet Membrane gyártási folyamata a nagy tisztaságú SiC por homogén szuszpenzióba keverésével kezdődik. A keveréket ezután extrudálják és öntötték, hogy zöld testet kapjanak, amelyet ezt követően legfeljebb2400 ℃mechanikailag robusztus kerámia hordozó létrehozásához.
A szubsztrát kialakítása után funkcionális membránréteget viszünk fel a SiC hordozóra és szinterezzük. A különböző szűrési pontossági követelményeknek megfelelően a bevonási és szinterezési folyamat megismétlődik2-4 alkalommala pórusméret eloszlásának precíz szabályozására és biztosítására
e membrán konzisztencia. A végtermék egy nagy teljesítményű SiC lapos membrán, amelyet kemény működési környezetekhez terveztek.
Ultrafiltrációs elvle & Szűrési tartomány
A SiC lapos lapos membránt széles körben használják ultraszűrő (UF) és membrános bioreaktor (MBR) rendszerekben. Az ultraszűrés egy fizikai elválasztási folyamat, amelyet a membránon átívelő nyomáskülönbség hajt.
A SiC lapos membrán tipikus szűrési pórusmérete 2 és 100 nm között van, ami lehetővé teszi a következők hatékony eltávolítását:
Ez a SiC lapos lemezmembránt különösen alkalmassá teszi olyan alkalmazásokhoz, ahol jó minőségű szennyvíz, stabil fluxus és erős szennyeződésállóság szükséges.
Alkalmazási területek
A SiC lapos membrán az ipari és települési vízkezelési alkalmazások széles körére alkalmas, beleértve:
Síklap membrán paraméterek