A Semicorex SiC vákuumtokmány a precíziós tervezés csúcsát képviseli az igényes félvezetőipar számára. A grafit szubsztrátumokból készült és a legmodernebb kémiai gőzleválasztási (CVD) technikákkal továbbfejlesztve ez az innovatív eszköz zökkenőmentesen integrálja a szilícium-karbid (SiC) bevonat páratlan tulajdonságait. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, ezért várjuk, hogy hosszú távú partnere lehessünk Kínában.
A Semicorex SiC vákuumtokmány egy speciálisan tervezett eszköz, amely a legnagyobb stabilitás és megbízhatóság mellett biztonságosan tartja a félvezető lapkákat a kritikus feldolgozási szakaszokban. A SiC Vacuum tokmány CVD SiC bevonata kivételes mechanikai szilárdságot, vegyszerállóságot és termikus stabilitást biztosít, biztosítva, hogy a kényes ostyák védve legyenek az esetleges sérülésektől és szennyeződésektől.
A SiC Vacuum Chuck grafit és SiC bevonat egyedülálló kombinációja magas hővezető képességet és minimális hőtágulási együtthatót kínál. Ez hatékony hőelvezetést és egyenletes hőmérsékleteloszlást tesz lehetővé az ostya felületén. Ezek a tulajdonságok elengedhetetlenek az optimális feldolgozási feltételek fenntartásához és a félvezetőgyártási folyamatok hozamának növeléséhez.
A SiC Vacuum tokmány vákuum környezettel is kompatibilis, így kiváló tapadást biztosít a tokmány és az ostya között. Ez kiküszöböli a csúszás vagy az elmozdulás kockázatát a nagy pontosságú műveletek során. Nem porózus felülete és inert tulajdonságai tovább akadályozzák a gázkibocsátást vagy a részecskék szennyeződését, megóvva a félvezetőgyártási környezet tisztaságát és integritását.
A Semicorex SiC Vacuum Chuck a félvezetőgyártás egyik sarokköve, amely páratlan teljesítményt és tartósságot kínál, hogy megfeleljen az ipar változó igényeinek. Akár litográfiában, maratásban, leválasztásban vagy más kritikus folyamatokban használják, ez a fejlett megoldás továbbra is újradefiniálja a kiválósági szabványokat a félvezető lapkák kezelésében és feldolgozásában.