SiC ostyahordozó

A Semicorex SiC Wafer Carrier egy speciális, nagy tisztaságú lámpatest, amelyet több félvezető lapka támogatására és szállítására terveztek extrém termikus és kémiai feldolgozási környezetben. A Semicorex ezeket a következő generációs ostyahajókat fejlett 3D nyomtatási technológiával biztosítja, páratlan geometriai pontosságot és anyagtisztaságot biztosítva a legigényesebb ostyagyártási munkafolyamatokhoz.

A pontosság újradefiniálása: 3D-nyomtatásNagy tisztaságú SiC

Az ostyahordozók hagyományos gyártási módszerei, mint például a megmunkálás vagy a több részből történő összeszerelés, gyakran szembesülnek a geometriai összetettség és a kötés integritásának korlátaival. Az additív gyártás (3D nyomtatás) felhasználásával a Semicorex SiC szelethordozókat gyárt, amelyek jelentős műszaki előnyöket kínálnak:

Monolit szerkezeti integritás: A 3D nyomtatás lehetővé teszi egy zökkenőmentes, egy darabból álló szerkezet létrehozását. Ez kiküszöböli a hagyományos ragasztással vagy hegesztéssel kapcsolatos gyenge pontokat, jelentősen csökkentve a szerkezeti tönkremenetel vagy a részecskék leválásának kockázatát a magas hőmérsékletű ciklusok során.

Komplex belső geometriák: A fejlett 3D nyomtatás olyan optimalizált réstervezést és gázáramlási csatornákat tesz lehetővé, amelyeket hagyományos CNC megmunkálással lehetetlen elérni. Ez javítja a folyamatgáz egyenletességét az ostya felületén, közvetlenül javítva az adag konzisztenciáját.

Anyaghatékonyság és nagy tisztaság: Eljárásunkban nagy tisztaságú SiC port használunk, ami minimális fémszennyeződést tartalmazó hordozót eredményez. Ez kritikus fontosságú az érzékeny diffúziós, oxidációs és LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) folyamatokban a keresztszennyeződések megelőzésében.

Kiváló teljesítmény extrém környezetben

A Semicorex SiC Wafer Carriereket úgy tervezték, hogy ott boldoguljanak, ahol a kvarc és más kerámiák meghibásodnak. A benne rejlő tulajdonságainagy tisztaságú szilícium-karbidszilárd alapot biztosítanak a modern félvezetőgyári műveletekhez:

1. Kiváló termikus stabilitás

Szilícium-karbidkivételes mechanikai szilárdságot tart fenn 1350°C feletti hőmérsékleten. Alacsony hőtágulási együtthatója (CTE) biztosítja, hogy a hordozónyílások tökéletesen egy vonalban maradjanak még gyors fűtési és hűtési fázisok során is, megakadályozva az ostya "sétálását" vagy becsípődését, ami költséges töréshez vezethet.

2. Univerzális vegyszerállóság

Az agresszív plazmamarattól a magas hőmérsékletű savas fürdőkig SiC hordozóink gyakorlatilag inertek. Ellenállnak a fluorozott gázok és tömény savak okozta eróziónak, így biztosítják, hogy az ostyanyílások mérete több száz cikluson keresztül állandó maradjon. Ez a hosszú élettartam lényegesen alacsonyabb teljes tulajdonlási költséget (TCO) jelent a kvarc alternatívákhoz képest.

3. Magas hővezetőképesség

A SiC magas hővezető képessége biztosítja, hogy a hő egyenletesen oszlik el a hordozóban, és hatékonyan továbbadjon az ostyáknak. Ez minimálisra csökkenti a "széltől a középpontig" terjedő hőmérsékleti gradienst, ami elengedhetetlen az egyenletes filmvastagság és az adalékanyag profilok eléréséhez a szakaszos feldolgozás során.

Ipari alkalmazások

A Semicorex SiC szelethordozók a nagy teljesítményű kötegelt feldolgozás aranyszabványát jelentik:

Diffúziós és oxidációs kemencék: Stabil támogatást biztosítanak a magas hőmérsékletű adalékoláshoz.

LPCVD / PECVD: Egyenletes filmlerakódás biztosítása a teljes ostyatételeken.

SiC Epitaxy: Ellenáll a szélsőséges hőmérsékleteknek, amelyek a széles sávszélességű félvezetők növekedéséhez szükségesek.

Automatizált tisztatér-kezelés: Precíziós interfésszel tervezték a FAB automatizálással való zökkenőmentes integráció érdekében.