A Semicorex szilícium-karbid tokmány egy rendkívül speciális alkatrész, amelyet a félvezetőgyártásban használnak. A Semicorex elkötelezett amellett, hogy minőségi termékeket kínáljon versenyképes áron, ezért nagyon várjuk, hogy hosszú távú partnere lehessünk Kínában*.
A Semicorex szilícium-karbid tokmány elsődleges funkciója a szilíciumlapkák biztonságos rögzítése és stabilizálása a félvezető-gyártási folyamatok különböző szakaszaiban, mint például a kémiai gőzleválasztás (CVD), a maratás és a litográfia. A szilícium-karbid tokmány kivételes anyagtulajdonságaiért nagyra értékelik, amelyek jelentősen javítják a félvezető gyártó berendezések teljesítménye és megbízhatósága.
A szilícium-karbid tokmány számos előnyt kínál magas hővezető képességének köszönhetően, amely hatékony hőelvezetést és egyenletes hőmérsékleteloszlást tesz lehetővé az ostya felületén, minimalizálja a termikus gradienseket, és csökkenti a lapkák elvetemedésének és meghibásodásának kockázatát a magas hőmérsékletű folyamatok során. Az anyag fokozott merevsége és szilárdsága biztosítja az ostyák stabil és precíz pozicionálását, ami kulcsfontosságú az igazítási pontosság fenntartásához a fotolitográfiában és más kritikus folyamatokban. Ezenkívül a szilícium-karbid tokmány kiváló vegyszerállóságot mutat, így közömbössé teszi a korrozív gázokkal és a félvezetőgyártásban általánosan használt vegyi anyagokkal szemben, ezáltal meghosszabbítja a tokmány élettartamát és megőrzi a teljesítményt az ismételt használat során. Alacsony hőtágulási együtthatójuk extrém hőmérséklet-ingadozások mellett is biztosítja a méretstabilitást, garantálva az egyenletes teljesítményt és a pontos szabályozást a hőciklus során. Ezenkívül a szilícium-karbid nagy elektromos ellenállása kiváló elektromos szigetelést biztosít, megakadályozza az elektromos interferenciát és biztosítja a gyártott félvezető eszközök integritását.
Kémiai gőzleválasztás (CVD): A szilícium-karbid tokmány ostyák megtartására szolgál vékony filmrétegek leválasztása során, stabil és hővezető platformot biztosítva.
Maratási eljárások: Kémiai ellenállásuk és stabilitásuk miatt a szilícium-karbid tokmány ideális a reaktív ionos maratáshoz (RIE) és más maratási technikákhoz.
Fotolitográfia: A szilícium-karbid tokmány mechanikai stabilitása és precizitása elengedhetetlen a fotómaszkok igazításának és fókuszának megőrzéséhez az expozíciós folyamat során.
Az ostya ellenőrzése és tesztelése: A szilícium-karbid tokmány stabil és hőálló platformot biztosít az optikai és elektronikus ellenőrzési módszerekhez.
A szilícium-karbid tokmány kritikus szerepet játszik a félvezető technológia fejlesztésében, mivel megbízható, stabil és termikusan hatékony platformot biztosít az ostyafeldolgozáshoz. A hővezető képesség, a mechanikai szilárdság, a vegyi ellenállás és az elektromos szigetelés egyedülálló kombinációja nélkülözhetetlen alkotóelemévé teszi őket a félvezetőiparban, hozzájárulva a nagyobb hozamokhoz és a megbízhatóbb félvezető eszközökhöz.