Szilícium epitaxiális lerakódás hordóreaktorban

Ha nagy teljesítményű grafit szuszceptorra van szüksége a félvezetőgyártási alkalmazásokhoz, a Semicorex szilícium epitaxiális lerakódás hordóreaktorban az ideális választás. Nagy tisztaságú SiC bevonata és kivételes hővezető képessége kiváló védelmet és hőelosztási tulajdonságokat biztosít, így a megbízható és egyenletes teljesítmény érdekében még a legnagyobb kihívást jelentő környezetben is.

Kérdés küldése

termékleírás

A Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ideális termék epixiális rétegek növesztésére ostya chipeken. Ez egy nagy tisztaságú SiC bevonatú grafit hordozó, amely nagyon ellenáll a hőnek és a korróziónak, így tökéletes extrém környezetben való használatra. Ez a hordós szuszceptor alkalmas LPE-re, és kiváló hőteljesítményt biztosít, biztosítva a hőprofil egyenletességét. Ezenkívül garantálja a legjobb lamináris gázáramlási mintát, és megakadályozza, hogy szennyeződések vagy szennyeződések diffundáljanak az ostyába.

A Semicorexnél arra összpontosítunk, hogy kiváló minőségű, költséghatékony termékeket biztosítsunk ügyfeleinknek. Szilícium epitaxiális hordóreaktorunk árelőnnyel rendelkezik, és számos európai és amerikai piacra exportálják. Célunk, hogy az Ön hosszú távú partnere legyünk, állandó minőségű termékeket és kivételes ügyfélszolgálatot biztosítva.

A szilícium epitaxiális lerakódásának paraméterei hordóreaktorban

A CVD-SIC bevonat főbb specifikációi
SiC-CVD tulajdonságai
Kristályos szerkezet	FCC Î² fázis
Sűrűség	g/cm³	3.21
Keménység	Vickers keménység	2500
Szemcseméret	Î¼m	2~10
Kémiai tisztaság	%	99.99995
Hőkapacitás	J·kg-1 ·K-1	640
Szublimációs hőmérséklet	℃	2700
Felexurális Erő	MPa (RT 4 pontos)	415
Young's Modulus	Gpa (4 pt kanyar, 1300º)	430
Hőtágulás (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Hővezető	(W/mK)	300

A szilícium epitaxiális lerakódás jellemzői a hordóreaktorban

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg jó sűrűségű, és jó védő szerepet játszhat magas hőmérsékleten és korrozív munkakörnyezetben.

- Szilícium-karbid bevonatú szuszceptor, amelyet egykristály növesztésre használnak, nagyon magas felületi síkságú.

- Csökkentse a hőtágulási együttható különbségét a grafit szubsztrát és a szilícium-karbid réteg között, hatékonyan javítja a kötési szilárdságot a repedés és a rétegvesztés megakadályozása érdekében.

- Mind a grafit szubsztrát, mind a szilícium-karbid réteg magas hővezető képességgel és kiváló hőelosztási tulajdonságokkal rendelkezik.

- Magas olvadáspont, magas hőmérsékletű oxidációállóság, korrózióállóság.