Vákuumcsuklók

A Semicorex Vacuum Chucks precízióval tervezett megoldások, amelyek célja az ostyák biztonságos, stabil és hatékony kezelése a félvezető gyártási folyamatokban. Ezeket a vákuumfürtöket elsősorban ostyuk tartására használják a különféle feldolgozási szakaszokban, biztosítva az ostyák minimális károsodását, a maximális stabilitást és a fokozott folyamat hatékonyságát. A vákuumfürtök különféle alapanyagokban és kerámia tányérokban kaphatók, amelyek testreszabott megoldásokat kínálnak a félvezető ipar és más precíziós iparágak különféle igényeinek kielégítésére.

Főbb jellemzők és anyagok

A Semicorex számos alapanyag -lehetőséget kínál a vákuumcsomorhoz, lehetővé téve a testreszabást a konkrét alkalmazási követelmények alapján:

Alapanyagok:

• SUS430: Egy rozsdamentes acél alapanyag, amely erõsségéről és korrózióállóságáról ismert, kiváló mechanikai stabilitást biztosítva.
• Alumíniumötvözet 6061: Könnyű, mégis erős, ez az alumínium alap nagy korrózióállóságot kínál, és ideális olyan alkalmazásokhoz, ahol a súly aggodalomra ad okot.
• Alumínium -oxid kerámia (99% alumínium -oxid): Nagy termikus stabilitást és kopásállóságot kínál. Kiváló választás a nagy pontosságú környezeteknél, ahol a hőállóság kritikus.
• Gránit: A merevségről és a kiváló rezgéscsillapító tulajdonságokról ismert, a gránit kiváló stabilitást és pontosságot kínál a ostyakezelés során.
• Szilícium -karbid (SIC) Kerámia: nagy keménységet, hővezető képességet és a kémiai korrózióval szembeni ellenállást kínál. Kiválóan alkalmas magas hőmérsékletű és agresszív környezetre.

Kerámia tányérok:

Alumínium -oxid (Al₂o₃): Az alumínium -oxid lemezek ismertek nagy elektromos szigetelési tulajdonságaikról, kopási ellenállásukról és magas hőmérsékleti stabilitásukról. Ezek olyan környezetekhez alkalmasak, ahol a minimális szennyeződés és a nagy teljesítmény döntő jelentőségű.

Szilícium -karbid (SIC): A SIC kerámialemezek kivételes keménységet, nagy hővezető képességet és stabilitást biztosítanak megemelkedett hőmérsékleten, így ideálisak a fejlett ostyakezelési folyamatokhoz a félvezető előállításában.

Síkság pontossága és anyagválasztása

A Chuck felületének lapossága kritikus tényező a megfelelő ostyakezelés és az optimális folyamat eredmények biztosításában. Az anyagválasztás befolyásolja a sík pontosságát, valamint a vákuumcsomó teljes súlyát és hőkezelő tulajdonságait.

Síkság pontossága:

Alumíniumötvözet 6061: Kiváló síkosságot biztosít a pontossággal, így népszerű választás a kevésbé igényes ostyakezelő feladatokhoz.

SUS430: Miközben szilárd mechanikai stabilitást kínál, a SUS430 kissé alacsonyabb a sík pontossággal, mint az alumíniumötvözet.

Alumínium -oxid -kerámia (99% alumínium -oxid): A magas dimenziós stabilitása miatt magas hőmérséklet és mechanikai feszültség miatt kínálja a legjobb pontosságot.

Gránit: A stabilitásról ismert, a gránit pontos síkosságot biztosít, különösen a rezgés-érzékeny környezetben.

Szilícium-karbid kerámia: Kiemelkedő lapos pontosságot biztosít, és ideális a nagy pontosságú ostyakezeléshez a magas hőmérsékletű alkalmazásokban.

Súlymegfigyelések

A vákuumfürdő súlya egy másik fontos tényező, különösen azoknál az alkalmazásoknál, ahol a Chuck könnyű kezelése és manipulációja kulcsfontosságú szempont.